材料现代分析方法课件8_课件.pptVIP

;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;; 第三节 宏观应力测定;;;;;;;;;;;;;;;;;第八章 电子衍射;;;;;;;;;;;四 单晶电子衍射成像原理与衍射花样特征;B: [uvw];;五 单晶电子衍射花样的标定;; ;;;A 110;铁素体电子衍射花样标定;;;;;;;第二节 低能电子衍射;原样排列;;;;a;;;o;;;;-10~-500v;;;;a*;;;;;;;电子枪;;极靴孔径;;;2. 照明系统 ;灯丝和阳极间加高压， 栅极偏压起会聚电子 束的作用， 使其形成直径为d0、 会聚/发散角为?0的交 叉 ;C1为第一聚光镜,作用是 将电子束的交叉点尺寸缩 小(10-1),C2为第2聚光镜, 用来调整电子束的束斑直 径及相干性(电子束越平行 相干性越好)。;;;样品;3. 成像系统 ;图9-7 透射电镜成像系统的两种基本操作 (a)将衍射谱投影到荧光屏 (b)将显微像投影到荧光屏 ;三、选区电子衍射 ;;减小选区误差的衍射操作：;第二节 样品制备 ;一、间接样品(复型)的制备 ;复型的种类;9-14 塑料-碳二级复型制备过程示意图 ;;二、直接样品的制备 ;2. 晶体薄膜样品的制备;图9-15 双喷电解抛光装置原理图 ;图9-16 离子减薄装置原理示意图 ;第三节 透射电镜基本成像操作及像衬度 ;;二、像衬度 ;; 图9-18 质厚衬度成像光路图 ;;图9-19 衍射衬度成像光路图;第四节 电子衍射运动学理论;一、运动学理论的基本假设;为满足上述基本假设，在实践上可通过以下两条途径实现： ①使样品晶体处于足够偏离布拉格条件的位向，以避免产生强的衍射，保证入射波强度不发生明显衰减； ②采用足够薄样品，尽量减小电子受多次散射的机会。 要达到这两个实验条件，实践上都有困难。 一方面，原子对电子的散射振幅较大，散射强度不会很弱，而且当选用的衍射束所对应的倒易点足够偏离厄瓦尔德球面时，其附近的某个或某些倒易点又将靠近厄瓦尔德球面； 另一方面，随着样品厚度的减小，倒易杆拉长，更容易产生较强的衍射，而且样品越薄则越难完全代表大块材料的性质，所以衍衬分析时样品通常不应制得太薄。可见，用运动学理论解释衍衬在多数情况下都是近似的。 ;①双束条件，即除直射束外只激发产生一个衍射束的成像条件。由上述讨论可知，对薄晶体样品双束条件实际上是达不到的。实践上只能获得近似??双束条件。因此，用于成像的衍射束应具有较大的偏离参量，使其强度远小于直射束强度，以近似满足运动学要求；另一方面该衍射束的强度应明显高于其它衍射束的强度，以近似满足双束条件； ②柱体近似，即在计算样品下表面衍射波强度时，假设将样品分割为贯穿上下表面的一个个小柱体(直径约2nm)，而且相邻柱体中的电子波互不干扰。;;电子枪灯丝和高压电源;;表10-1 几种类型电子枪性能比较;电子枪;;;;;;β;表10-2 扫描电子显微镜景深;第二节 像衬原理与应用;1．二次电子像衬度及特点;二次电子像的衬度可以分为以下几类：;;二次电子像衬度的特点：;;;背散射电子产额;2．背散射电子像衬度及特点;;背散射电子衬度有以下几类：;背散射电子像的衬度特点：;图10-7 二次电子和背散射电子的运动轨迹;二、应用;第三节 电子探针X射线显微分析(EPMA);图10-17 电子探针结构示意图;能谱仪全称为能量分散谱仪(EDS)． 目前最常用的是Si(Li)X射线能谱仪，其关键部件是Si(Li)检 测器，即锂漂 移硅固态检测 器，它实际上 是一个以Li为 施主杂质的 n-i-p型二极管。;以Si(Li)检测器为探头的能谱仪实际上是一整套复杂的电子学装置。;Si(Li)能谱仪的优点：;;能谱仪的缺点：;二、波谱仪;波谱仪的特点;能谱议和波谱仪的谱线比较