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- 2019-10-01 发布于天津
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第卷第期中国光学与应用光学年月文章编号环带抛光技术材料去除理论模型研究李俊峰陈亚宣斌王朋陈晓苹宋淑梅中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室吉林长春中国科学院研究生院北京摘要为了完善环带抛光技术并指导加工根据方程建立了材料去除量的理论模型考虑环带抛光技术中的影响因素如抛光盘与工件之间的转速比偏心距及压强分布等参数建立了材料去除量与各影响因素之间相互关系的数学模型理论分析和实验结果显示转速比偏心距和压强分布对磨削量均有影响材料的去除效率随转速比和偏心距增加而增大转速比越
第２卷 第５期 中国光学与应用光学 Ｖｏｌ．２ Ｎｏ．５
２００９年１０月 Ｏｃｔ．２００９
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