工业硅冶炼工艺简介.doc

. . . . 资料整理 工业硅冶炼工艺简介 时间:2001-12-28 0:00:00? ? 来源: 本站原创?? 浏览次数: 3071 发表评论 所属分站: 硅系所属产品: 工业硅关 键 词:工业硅 金属硅文章摘要: 工业硅 工业硅冶炼的… 工业硅 工业硅冶炼的原料 ??? 冶炼工业硅的原料主要有硅石、碳质还原剂。由于对工业硅中铝、钙、铁含量限制严格，对原料的要求也特别严格。 ??? 硅石中SiO299.0%，Al2O30.3%，Fe2O30.15%，CaO0.2%，MgO0.15%；粒度为15～80mm。 ???? 选择碳质还原剂的原则是：固定碳高，灰分低，化学活性好。通常是采用低灰分的石油焦或沥青焦作还原剂。但是，由于这两种焦炭电阻率小，反应能力差，因而必须配用灰分低，电阻率大和反应能力强的木炭（或木块）代替部分石油焦。为使炉料烧结，还应配入部分低灰分烟煤。必须指出，过多或全部用木炭，不但会提高产品成本，而且还会使炉况紊乱，如因料面烧结差而引起刺火塌料、难以形成高温反应区、炉底易开成SiC层、出铁困难等。 ??? 对几种碳质还原剂的要求如表1-1所示。 ??? 表1-1 碳质还原剂成分粒度要求 名称 挥发分/% 灰分/% 固定碳/% 粒度/mm 木炭 25～30 〈2 65～75 3～100 木块 〈3 〈150 石油焦 12～16 〈0.5 82～86 0～13 烟煤 〈30 8 0～13 ??? 此外，碳质还原剂含水量要低且稳定，不能含其他杂物。 冶炼原理： ??? 工业硅冶炼基本原理??? 碳还原氧化硅的反应，通常以下式表示：?　 SiO+2C=Si+2CO　　这是硅冶炼主反应的表达式，也是一般计算和控制正常熔炼依据的基础。但就碳还原氧化硅的整个反应过程来说，却有着复杂的反应机构。　　A·Γ·沃多普亚诺夫(Bодопьянов)等指出，碳还原氧化硅是通过气相实现的。二氧化硅在变为气上时，分解出一氧化碳和分子氧，在惰性气氛中在非接触相互作用条件下，氧化硅和碳之间产生如下反应：　　氧化硅的表面分解：　　2SiO2=2SiO+O2　　碳的表层与氧化硅分解产物相互作用：　　SiO+2C=SiC+CO　　O2+2C=2CO　　иoсo库勒科夫 (Kyлков)认为游离碳的存在能保证由SiO2把硅还原成碳化硅，但在温度低于1400℃时反应速度不大。如果系统温度不超过1620±30℃，在碳量不过剩时，全部碳都可以转变为碳化硅。 　　ыoсo赫鲁谢夫(Xpущев)还指出，在碳与氧化硅的反应过程中，存在着如下明显的次序性： 　　 　　其中，是按SiO2=SiO+反应形成的氧。这些过程中，SiO2的分解、SiC的形成和破坏是两个重要的中间过程，还原剂对氧对SiO的反应能力愈强，愈能加速下列反应： 　　O+C=CO　　SiO+2C=SiC+CO　　因而愈能促进SiO2的分解。　　A．C．米库林斯基(Микулинский)提出了在熔炼硅的实际过程中电炉内不同区域的反应(见表1-2)。 表1-2?? 炉内不同区域发生的反应 区域 反应 上部 ↑CO↑SiO↓C↓SiO2 SiO+2C=SiC+CO 中部 ↑CO↑SiO↓SiO2↓SiC SiO+SiC=2Si+CO SiO2+CO=SiO+CO CO+C=2CO SiO2+C=2SiC 下部 ↑CO↑SiO↓SiO2↓SiC 2SiO2=2SiO+O2 SiC+O2=SiO+CO 　　Go拉思(Rath)等人认为，在硅的熔炼过程中形成中间产物SiO和SiC具有重要意义，并根据温度和反应过程的不同，把电炉内整个反应过程划分为如下几个区域：　　(1)低温反应区(1100℃以下)。高温反应区的气体从料面逸出时，气体中残留的SiO与空气中的氧接触，发生如下反应：　　 　　在1100℃以下SiO不稳定，还可能发生如下过程：　　2SiO=SiO2+Si (3-2)　　但在还原剂活性表面上，优生发生下列反应：　　SiO+2C=SiC+CO (3-3)　　(2)生成SiC的区域(1100～1800℃)。反应3-3从1100℃开始已能较强烈地进行，到1537℃以后，能自发进行以下反应：　　SiO2+3C=SiC+2CO (3-4)　　(3)生成熔体硅的区域(1400℃以上)。在1410℃左右纯硅熔化(如能生成熔点更低的Fe-Si合金)，超过纯硅熔点后，SiO与碳的反应强烈，生成硅：　　SiO+C=Si+CO (3-5)　　从1650℃起，下列反应向右进行：　　SiO2+2C=Si+2CO (3-6)　　(4)分解区域(1800℃以上)。在1