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第一部分 电子束与物质的作用 第四部分 电镜样品的处理和制备 样品要干燥、洁净，没有挥发性和腐蚀性物质。 不要用裸手去接触样品和样品台，含有溶剂的样品要充分去除溶剂。 样品导电性良好。 样品在电子束照射下稳定。 样品要牢固地固定在样品台上。 金属试样 样品不能带有磁性。特别是磁性粉末样品会对电子光学系统造成危害。 如果是铁磁性块状样品，必须尽可能减小样品尺寸（不大于3×3mm2)，且用导电胶牢固地固定在样品台上。 样品要清洗干净，表面不能有污染。 表面导电性不好的样品要镀导电膜。 粉未试样 用溶剂或水将粉末超声分散后滴在盖玻片上，然后将盖玻片固定在样品台上。 也可用碳导电胶带固定粉末，并将胶带上表面与样品台用导电胶连通。 样品粘好后，用吸耳球用力将未固定牢固的粉末吹走，以免污染电镜。 镀导电膜。 电镜的合轴 电子枪合轴。 物镜光阑合轴。 当改变加速电压或操作模式时，应检查合轴情况。 加速电压的选择 加速电压高，图像分辨率高，信噪比高，但会使图像边缘效应增强，并产生充电现象。此外，因电子束穿透能力强，可使内部结构干扰表面形貌。 根据样品的情况选择不同的加速电压。 密度低、导电性不好的样品，宜选用较低的加速电压。 电子束斑大小的选择 电子束斑大（也即探针电流大），景深大，信号强，图像噪音小，但分辨率较低，样品表面易充电。 电子束斑的大小取决于第一聚光镜的励磁 电流，电流数值越小，电子束斑直径越大。 工作距离的选择 工作距离（WD）是指物镜下表面与样品表面的距离，WD短可以得到较高的分辨率，WD长可以得到大的倾斜角度和大的景深。 放大倍率越高越好吗？ 聚焦、消像散 图像聚焦和消像散是图像质量重要保证，可自动或手动进行。 一般情况下，在高于所需放大倍数一、二档的条件下进行聚焦或消像散，然后回到所需放大倍数下照像，可得到比较理想的照片。 聚焦和消像散应交替进行，以得到满意的图像。 选择Docking Panel，则隐藏控制面板 放置样品 更换样品： 打开氮气 在控制面板里点击真空（vaccum）标签 点放气（vent） 拉开舱门 把样品座安装在样品台上 关紧舱门 点击抽真空（pump）键 加灯丝电流 真空度达到要求后，屏幕右下角的Vac会打上绿钩 点击右边的Gun，选择Beam On 灯丝电流加载完后，Gun也会打上绿钩 样品定位 选取stage/navigation 双击所要观测样品桩 调整样品台高度 在TV模式下调整高度 样品台目前所在的位置 输入移动目的地的坐标 输入移动的距离 选择时，样品台在泄真空时自动下降到最低点 选择时，SEM显示的工作距离随样品台的Z方向移动自动进行更改 选择时，不使用样品台控制器 获取图像 选择较快扫描速度 在Gun双击EHT，选择所需要的加速电压 双击Iprobe，选择所需要的束流 调整图像放大倍数和聚焦 在Detectors选择相应的探测器 调整至所需要的放大倍数并聚焦清晰 选择相应的探测器 选择探头收集器偏压 选择两种信号混合 两种混合信号的比例 调节图像的亮度 调节图像对比度 图像调整的优化 点击Reduced Raster 在小框中进一步聚焦 物镜光阑合轴 消象散 点击Aperature下的Stigmation，拖动X/Y轴直至图像清晰 图像存储 Freeze on 选择 End Frame 选择扫描速度（通常为5-6） 选择降噪帧数（通常为1、2） 点击Freeze键 图像右下角出现橙点 当扫描完毕后，橙点变为红点，图像静止。 点击右键选择Send To，选择所需要的格式后存储 存储完毕，解冻图像 关机 关闭软件 关闭电脑 按下黄色按钮 30秒后按下红色按钮 探针电流不断改变的情况下仍可聚焦试样 大视场预览和大景深 在任何的工作距离或电压下，保证探针电流直径是最小的 在任何的工作距离或电压下，选择的探针电流确保具有最大的景深 大视场预览和大景深 分析模式 分辨率模式 视场模式 景深模式 鱼眼模式 Optibeam? SE常用操作条件 常规成像 高度差很大可选择景深模式 EHT = 10 kV Iprobe = 20-50 pA WD =10 mm Aperature = 30 μm 高分辨成像 Optibeam 选择分辨率模式 EHT = 20 - 30kV Iprobe = 10-20 pA WD =6 mm Aperature = 30 μm BSE常用操作条件 EHT = 20 kV Iprobe = ＞200 pA WD = 8-10 mm Aperature = 30 μm 根据样品成分分布情况选择合适的BSD Gain 分屏 选择Scanning/Split 只能在标记的区域调整图像 可以对两个区域同时调整 Stage ma