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概 述 准单晶技术 准单晶技术 准单晶技术 选择性发射极（SE） 选择性发射极（SE）  选择性发射极（SE）  背面钝化技术 HIT技术  HIT技术  HIT技术  HIT技术 EWT技术 EWT技术  EWT技术 激光转印技术(LTP)  激光转印技术(LTP)  激光转印技术(LTP)  反应离子刻蚀（RIE）  反应离子刻蚀（RIE）  * 上海电子工程设计研究院 地址：西安沣惠南路34号海升国际8号18楼 联系电话：(029 * 上海电子工程设计研究院 四、HIT技术 三、背面钝化技术 二、选择性发射极（SE） 一、准单晶技术 五、EWT技术 六、激光转印技术(LTP) 七、反应离子刻蚀（RIE） 准单晶技术简介 在光伏行业迅速发展的今天，用于制造太阳能电池的晶体硅主要是采用直拉法的单晶硅及采用铸锭技术的多晶硅。多晶硅铸锭，投料量大、操作简单、工艺成本低，但电池转换效率低、寿命短；直拉单晶硅转换效率高，但单次投料少，操作复杂，成本高。因此，怎样将两者合二为一、扬长避短，就成了国内外光伏企业竞相研究的热点和难点。在这种背景下，介于多晶硅和单晶硅之间的准单晶逐渐进入了人们的视野。 准单晶主要有两种铸锭技术：?