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山东xx光伏科技有限公司 双级反渗透设备+EDI+抛光混床水处理系统 操 作 规 程 目 录 第一部分、设备系统设计技术要求 第二部分、设备工艺流程及主要组成 第三部分、预处理系统 第四部分、反渗透装置脱盐系统 第五部分、后处理深度脱盐系统 第六部分、系统整体操作说明 第一部分 设备系统设计技术要求 设备产水规模: 系统总进水30m3/h 反渗透出水≥15m3/h EDI出水≥10 m3/h 抛光混床≥3.6m3/h 原水水质:(根据招标文件提供的自来水水质分析报告) 项目BZ± ρ(BZ±) (mg/L) C(l/Z (BZ±) (mmmol/L) X(l/Z (BZ±) (%) 分析项目 ρ(CaCO3) (mg/L) 分析项目 ρ(B) 阳 离 子 K+ 4.1 0.105 1.03 总硬度 294.61 酚类 μg/L Na+ 96.50 4.198 41.2 永久硬度 121.10 氰化物 Ca2+ 65.17 3.252 31.91 暂时硬度 173.51 As Mg2+ 32.03 2.635 25.86 负硬度 0 Hg NH4+ <0.10 总碱度 173.51 Cd Fe <0.04 Ag Fe2+ <0.04 分析项目 ρ(B) Pb AL3+ (mg/L) Cr H2SiO3 5.98 ∑ 197.80 10.19 100.00 游离CO2 2.45 阴 离 子 Cl- 107.47 3.031 29.26 HBO2 Ba mg/L SO42- 172.14 3.584 34.59 COD Li - HCO3- 211.56 3.467 33.47 侵蚀CO2 Sr 0.96 CO32- 0 悬浮物 Zn F- 0.78 0.041 0.40 矿化度 710.39 Se I- Mn Br- 项目 检测结果 Cu NO3- 0.025 0.001 0.4 色度 Co NO2- 14.64 0.236 2.28 臭 Ni PO43- <0.03 味 Mo 透明度 Be ∑ 506.61 10.360 100.01 浑浊度 总α mBg/L 库尔洛夫公式: 肉眼可见物 总β 226Ra PH值 8.1 Rn 电导率(us/cm) 238U 232Th 出水水质: 3.1反渗透部分: 电导率:≤10 us/cm 回收率:75%(一级反渗透);80-85%(二级反渗透) 脱盐率:98%(一年内) 3.2 EDI部分: 电阻率:≥10 MΩ.cm 回收率:90-95% 3.1抛光混床部分: 电阻率:18 MΩ.cm 总硬度:≈0 控制水平:系统实现全自动运行,要求通过可编程控制器(PLC)实现。 第二部分 工艺流程及设备主要组成 1.工艺流程 原水箱原水泵 原水箱 原水泵 多介质过滤器 一级高压泵 一级保安过滤器 一级RO水箱 原水 阻垢剂加药 反洗泵 二级保安过滤器 二级高压泵 RO产水箱 一级反渗透装置 二级反渗透装置 抛光混床 抛光混床增压泵 EDI装置 EDI增压泵 氮封水箱 PH调节加药装置 用水点 变频供水系统 用水 切片供水泵 设备用水 清洗水箱 清洗泵 清洗过滤器 二级浓水回原水箱 2.设备说明: 根据贵方需要水质的要求,我们设计以上流程为贵系统提供能达到预期流量和水质的合格产水。根据工艺的要求,贵厂用水主要包含三部分,一为反渗透的产水,水质电导率在10以下,用于拉单晶制水,并为下一步水处理工艺提供合格的水;二位EDI设备的产水,水质电阻率在10 MΩ.cm,满足工艺的要求;三位抛光混床的产水,水质电阻率达18 MΩ.cm,此水为高纯水,在运输过程对管路的材质有很大的要求。 在该水处理工艺中,考虑到原水的变化性,建议在反渗透设备添加阻垢剂加药装置和PH控制装置,有利于设备的运行。 在水处理设备的长期运行中,不可避免的会有部分污染物存在膜元件表面造成设备污染,该设备设置一套清洗装置,用于对两级反渗透系统和EDI设备进行药洗清洗,以迅速恢复性能,即可保证生产用水的需要,又可延长设备的使用寿命。 设备采用自动与手动的控制操作,过滤器的反洗操作采用手动操作,设备运行采用PLC集中控制,通过水箱的液位高低操作自动控制反渗透设备和EDI设备的起停。系统采用触摸屏控制,可以通过触摸屏上进行直观的查看系统的运行状态,并可触摸操作。 整套水处理设备主要包含预处理装置,两级反渗透脱盐装置,EDI装置以及抛光混床装置等精处理脱盐装置以及相关清洗装置等相关配件。 第三部分 预处理系统的介绍及操作 预处理系统由多介质式过滤器、活性炭过滤器以及加药装置等相关附件组成。 1、多介质过滤器,活性炭过滤器物理特性及技术指标 1.1 物理特性 1.1.1设备数量:

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