用脉冲喷射电沉积法制备纳米晶镍镀层.pdfVIP

维普资讯 第40卷 第3期 材 料 保 护 Vo1．40 No．3 2007年3月 M aterialsProtection M8r．2OO7 用脉冲喷射 电沉积法制备纳米晶镍镀层 江 山 。潘 勇 。唐 甜 。周益春 t (1．河南工业大学理学院，河南 郑州 450007； 2．湘潭大学先进材料及其流变特性教育部重点试验室，湖南 湘潭 411105； 3．湘潭大学材料与光电物理学院，湖南 湘潭 411105) [摘 要] 采用脉冲喷射电沉积方法制备了纳米晶镍镀层，用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜 (TEM)和x射线衍射(XRD)等方法研究了镀层的生长形貌和微观结构，并考察了脉冲电流密度对镀层微观 结构如晶粒尺寸、织构等的影响。结果表明：镀层内表面(基体一侧)具有比外表面(镀液一侧)更为精细的晶 粒结构，说明随着厚度的增加，镀层中的晶粒逐渐粗化。随着电流密度从45A／dni增加到 180A／dm ，镀层中 晶粒生长的择优取向由(111)织构逐渐转变为强(220)织构。当电流密度从45A／dni2增加到 120A／dIn时， 镀层平均晶粒尺寸逐渐减小；而进一步增加 电流密度到 180A／dni ，镀层晶粒尺寸又会有轻微的增大。 [关键词] 脉冲喷射电沉积；纳米晶镍镀层；微观结构；织构；平均晶粒尺寸 [中图分类号]TG174．441 [文献标识码]A [文章编号]1001—1560(2007)03—0049—03 0 前 言 高的热量和物质传输率，使得金属沉积速度大大提高， 有利于增加产率和降低成本 J，因而是一种非常适合 纳米晶材料是晶粒尺寸在 1～100nm的多晶材 于工业生产的技术。另一方面，喷射 电沉积极大地提 料，由于其独特的晶粒结构和界面结构，表现出与常规 高了沉积的极限电流密度，因而可以使沉积过程在非 多晶材料很不同的物理、化学和力学性能，从而使其在 常高的电流密度下进行，这对于获得纳米晶结构的镀 科学、工程和商业领域受到了广泛关注。纳米晶材料 层是非常有利的。研究表明，与直流电沉积相比，脉冲 的制备方法与合成技术一直是该领域内的一个重要研 电沉积能更好地控制镍镀层的微观结构和性能 ·引。 究课题，目前，已发展了多种制备与合成纳米晶材料的 特别是脉冲电沉积中可以使用比直流电沉积中高得多 方法，这些方法按其界面形成过程可分为3大类 ]： 的峰值 电流密度，从而更易于获得高质量的纳米晶镀 (1)外压力合成法，如超细粉冷压法、机械研磨法；(2) 层 J。因而，脉冲电沉积法制备纳米晶镍的研究受到 沉积合成法，如电沉积、化学气相沉积、物理气相沉积； (3)相变界面形成法，如非晶晶化法。与其他制备方法 广泛关注。本工作采用脉冲喷射电沉积的方法在改进 相比电沉积法有很多优点，这包括_2。J：(1)适合用该 的瓦特电镀液中制备了纳米晶镍镀层，用扫描电子显 法制备的纳米晶纯金属、合金及复合材料的种类较多， 微镜 (SEM)、透射 电子显微镜 (TEM)和 x射线衍射 且受尺寸和形状限制小；(2)一次性投资较少，成本低， (XRD)等