制定《高纯工业品过氧化氢》化工行业标准编制说明（征求意见稿）（上网）.docxVIP

第PAGE10页共NUMPAGES10页 制定高纯工业品过氧化氢化工行业标准编制说明 （征求意见稿） 任务来源 根据工业和信息化部办公厅（工信厅科〔2017〕106号）《关于印发2017年第三批行业标准制修订计划的通知》的要求，2017年～2019年完成《高纯工业品过氧化氢》化工行业标准的制定工作，计划编号为：2017-1095T-HG。本标准由中海油天津化工研究设计院等单位共同起草。全国化学标准化委员会无机化工分技术委员会负责技术归口。 标准简要编制过程 2.1制定标准调研阶段 全国化学标准化技术委员会无机化工分会接到上级部门下达的制定《高纯工业品过氧化氢》化工行业标准的计划后，首先查阅了国内外标准及有关技术资料，并向产品生产单位发函，对过氧化氢的生产情况进行调查，并广泛征求对制定标准工作的意见，在此基础上提出了文献小结。 2.2制定标准工作方案会阶段 对收集到的国内外标准及制标的意见进行汇总、分析，在此基础上提出了文献小结。2018年11月在天津市召开了制定标准工作方案会，会前对国内的生产企业进行了联系与调查，会上企业和归口单位的代表对国内外标准情况、产品分类、指标和试验方法进行了认真地分析和对比，初步确定了高纯工业品过氧化氢化工行业标准的指标项目和试验方法等内容，提出了工作方案，安排了工作进度。 2.3 征求意见 2019年6月由中海油天津化工研究设计院有限公司负责将标准征求意见稿（草案）和编制说明（草案），发给全国化学标准化技术委员会无机化工分技术委员会各位委员、生产厂及用户广泛征求行业内意见。 制标意义 微电子化学品是电子技术微细加工制作过程中不可缺少的关键性基础化工材料之一，主要用于半导体制造过程，用以冲洗晶片及制作研磨剂、蚀刻剂和光刻胶去除剂等。国内的超净高纯化学品规格与品种级别主要有MOS级和SEMI-C7级两个级别的超净高纯化学品，其中MOS级超净高纯化学品主要用于中小规模集成电路及分立器件的制作，SEMI-C7级超净高纯化学品主要用于0.8～1.2 μm集成电路工艺技术的制作。其主要指标如下：MOS级超净高纯化学品金属杂质含量：≤500×10-9 g/g；非金属杂质含量：≤l×10-6 g/g；颗粒（≥5 μm）控制为：≤27个/mL；SEMI-C7级超净高纯化学品金属杂质含量：≤1 0×1 0-9 g/g；非金属杂质含量：≤500×1 0-9 g/g；颗粒（≥5 μm）控制为：≤25个/mL。 由于电子工业对高纯过氧化氢需求的增长，近年来此类过氧化氢生产获得很大发展。过氧化氢主要作为硅片清洗剂、印刷电路板蚀刻剂，还用于处理其他金属（铜、铜合金等）表面和半导体材料（镓、锗等 )。伴随集成电路的高度集成化，不仅对颗粒有严格的要求，而且纯度要求也越来越高。 以过氧化氢的颗粒标准来说，大于0.5 μm的颗粒小于25个/mL；以每种金属离子杂质含量而言，一般电子级过氧化氢低于100×10-9 g/g，精细电子级 ( SEMI-C7) 过氧化氢低于10×10-9 g/g，超高纯级过氧化氢（SEMI-C8）低于1×10-9 g/g，超净高纯级过氧化氢（SEMI-C12）低于0.1×10-9 g/g。 目前我国高纯过氧化氢生产企业之间的生产规模、管理水平、质量控制存在着不同，从而使产品质量存在较大的差别，产品没有一定的规范性，因此当前急需制定高纯工业品过氧化氢化工行业标准。同时，编制适合我国太阳能光伏、半导体行业用过氧化氢产业发展的标准，可以规范行业对于产品的技术要求以及试验方法等，推动产业的进步和发展，可以更好的使我国的产品与国际接轨，为太阳能光伏、半导体行业用硝酸的产业与国际接轨提供技术支持，对促进产业的发展具有积极意义。 产品的性质、用途和生产工艺 产品的性质 过氧化氢，又称双氧水，是无色透明的液体，低浓度时无嗅，高浓度时有轻微刺激性气味。过氧化氢溶于水、醇、醚、不溶于石油醚，遇热、光、粗糙表面、重金属及其它杂质会引起分解，同事放出氧气和热。具有较强的氧化能力，为强氧化剂。在有酸存在下较稳定。浓度高的过氧化氢具有腐蚀性。高浓度的过氧化氢能使有机物质燃烧，与二氧化锰相互作用能引起爆炸。 产品用途 与氢氟酸、冰醋酸、双氧水等配合使用，广泛应用于太阳能光伏行业、液晶显示器件和半导体行业制程的清洗和刻蚀。 生产工艺 以工业过氧化氢为原料，经精馏，冷凝分离除去杂质后，再经微孔膜过滤去除杂质，得到高纯品过氧化氢。 编制标准的原则和依据 编制原则 积极采用国际标准和国外先进标准； 有利于促进技术进步，提高产品质量； 有利于合理利用资源，提高经济效益； 符合用户要求，保护消费者利益，促进对外贸易。 编制依据 国内外标准指标对比； 国内外先进标准试验方法对比； 国内外先进标准情况 目前收集到了有关高纯过氧化氢的国、内外标准和试