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第十四章 其他显微分析方法 高能离子束与固体样品的交互作用 反射离子：一部分入射离子在样品表面发生弹性碰撞后被反向弹回。 二次离子：入射离子与样品原子碰撞时，可以将样品中的原子击出，被击出的原子可以是离子状态，也可以是中性原子状态，甚至是分子离子（被击出部分是化合物）。被入射离子激发产生的这些离子，统称为二次离子。 X光子或俄歇电子：入射离子还通过非弹性碰撞而激发出原子中的电子，使受激原子发射X光子或俄歇电子。 离子注入：一部分入射离子经过多次非弹性碰撞，逐渐消耗能量直到停止运动，存留在样品中，称为离子注入。 二次离子分类、记录：二次离子采用静电分析器和偏转磁场组成的双聚焦系统对离子分类、记录。 例如：原子发射一个KL2L2俄歇电子，其能量为 EKL2L2 = EK – EL2 – EL2 - EW 引起俄歇电子发射的电子跃迁多种多样，有K系、L系、M系等。 俄歇电子与特征X射线是两个相互关联和竞争的发射过程 ，其相对发射几率，即荧光产额?K 和俄歇电子产额?K 满足（ K系为例） 什么是电子能谱分析法？ 电子能谱分析法是采用单色光源（如X射线、紫外光）或电子束去照射样品，使样品中电子受到激发而发射出来，然后测量这些电子的产额（强度）对其能量的分布，从中获得有关信息的一类分析方法。 X射线光电子能谱法（XPS）