彩色滤光片介绍.ppt

CANDO CORPORATION 曝光 Cr Cr濺鍍 顯影 PW 玻璃清洗 去光阻 蝕刻 R光阻塗佈 RPR +PR 光阻塗佈 顯影 G光阻塗佈 GPR 曝光 曝光 彩色濾光片製造流程 曝光 Cr Cr濺鍍 顯影 PW 玻璃清洗 去光阻 蝕刻 R光阻塗佈 RPR +PR 光阻塗佈 顯影 G光阻塗佈 GPR 曝光 曝光 顯影 彩色濾光片製造流程 曝光 Cr Cr濺鍍 顯影 PW 玻璃清洗 去光阻 蝕刻 R光阻塗佈 RPR +PR 光阻塗佈 顯影 G光阻塗佈 GPR 曝光 曝光 顯影 B光阻塗佈 BPR 彩色濾光片製造流程 * * 彩色濾光片介紹 涵蓋液晶材料的光學特性、電流電場效應、RGB三原色的全彩效果等。簡單的說，其運用電路產生電場驅動液晶分子，藉由液晶物理特質產生不同的光學效應，再搭配對應彩色濾光片上RGB三原色的變化，達到全彩顯示影像的效果。 TFT-LCD的運作原理 LCD簡單應用原理 1.光在液晶中方向性將成90度扭轉。 2.各面向的光源通過偏光板轉成單一方向光源。 垂直：若上下兩片偏光板方向呈90度角，恰巧 為中間夾的液晶分子扭轉的90度角，故光可以通過，呈面白底（normal white）的畫面。 平行：若上下兩片偏光板方向平行，由於中間夾的液晶分子扭轉的90度角，故光不可以通過，呈面黑底（normal black）的畫面。 產品介紹 大型TFT-LCD彩色濾光片 基板尺寸: 第3.5代 620mmx750mm 製程方法: 顏料分散法 標準產能: 4萬片基板/月 技術來源: 日本STI Technology, Inc. 應用產品: 12吋以上筆記型電腦或 監視器用TFT-LCD 玻璃基板 配向膜 偏光膜 玻璃基板 偏光膜 液晶 彩色濾光片 薄膜電晶體 黑色矩陣 保護層 ITO導電膜 一片TFT-LCD面板中，所使用的關鍵零組件及材料包括有玻璃基板、彩色濾光片、液晶、配向膜、補償膜、偏光膜、背光模組、LCD驅動IC等等。由於在TFT-LCD的製造成本中，材料成本即佔有60~70%比重，同時材料的採用與生產設備、面板製造等方面必須相互配合，才有助於維持產品品質及良率在一定水準之上，因此TFT-LCD所使用的關鍵材料及零組件具有很高的重要性，下面即將主要關鍵材料及零組件作一簡單的介紹： TFT LCD 關鍵材料及零組件介紹 玻璃廠又可稱為顯示器產業的晶圓廠，一個玻璃基板約佔TFT-LCD製造成本之3%。目前TFT-LCD使用的玻璃種類主要是無鹼鋁矽酸玻璃，廠商可在玻璃上依不同需求進行相關製程，形成TFT-LCD基板、彩色濾光片等產品。為了因應TFT-LCD面板輕薄平大的要求，玻璃基板在平面起伏、表面粗度、密度、比重等品質有一定的標準，因此對於基板的耐熱度、化學、機械、電氣等性質均有參數上的限定。 目前全球玻璃母板的領導廠商是美國康寧，採浮法製程為主。由於TFT-LCD廠商多數長期與康寧合作，其生產線上參數最適化設定均與康寧玻璃母板特性配合，使廠商無法輕易的更換玻璃供應廠商，長久以來成功的阻礙競爭者撼動其地位。玻璃廠由興建至可投產約須耗時1.5~2年的時間，產品的生命週期可享受長達4~5年，目前也是台灣在TFT-LCD產業中缺乏的主要技術。 1、玻璃基板(Glass Substrate)： 　　彩色濾光片是TFT-LCD面板彩色化的必要材料，約佔成本20%。現階段彩色濾光片的主流製程為顏料分散法，主要組成材料除玻璃母板外，還有黑色矩陣、彩色濾光膜層、保護膜層、ITO導電膜等彩色濾光片在生產製程中，首先將黑色矩陣蝕刻在玻璃母板上，形成防止彩色光阻混色的黑色遮光框，其次重複RGB三道光阻的塗佈、曝光、顯影的流程，然後鍍上加強表面平坦及防熱處理的保護膜，最後鍍上一層讓玻璃透光又兼具導電特性(電阻值低)的ITO(氧化銦錫)膜，而形成TFT-LCD面板的上玻璃。 　　由於彩色濾光片的生產線依玻璃基板的尺寸也有不同世代之分，同時其上的RGB位置大小必須與TFT-LCD基板的每一個畫素精準對位，因此彩色濾光片廠與TFT-LCD廠商均具有長期的合作關係。 2、彩色濾光片(Color Filter)： 　　液晶是一種有機分子，不同結構的液晶會產生不同的光電性質，因此其對應的光電驅動方式也有差別，目前大部分TFT-LCD廠商多採用線型低分子液晶。 　　液晶的光電特性可藉分子設計加以調整，廠商可將其合成的液晶分子及調配的比例申請專利，不過在考量面板廠商信心度時，現有液晶市場多為日本Merck、Chisso等大廠所掌控。 3、液晶(Liquid Crystal)材料： 　　配向膜功能在控制液晶分子的排列，並形成在ITO膜之上方。主要利用印刷方法將配向膜塗佈在基板上並加熱硬化，然後以配向設備磨擦配