tft-arrry制程动画演示.pptVIP

TFT阵列制程 一 玻璃基板 清洗 透明导电薄膜溅镀成型 涂光阻胶 暴光 清除已经发生化学变化的光阻胶 蚀刻 去光阻胶 Open/Short Text 二 I/S PEP 清洗 AP-CVD 清洗 P-CVD Clenaing O2 ashing Coating(涂覆光阻胶) Back exosre Exposure（暴光） Developing（显影） Wet etching（湿蚀刻） Strip（剥落光阻胶） 三 AI PEP cleaning P-CVD Coating（涂覆光阻胶） Exposure（暴光） Developing（显影） CDE dry etching（干蚀刻） Strip（剥落光阻胶） 四 PX PEP Cleaning ITO sputter（ITO溅镀） ITO cleaning（ITO清洗） Coating（涂覆光阻胶） Exposure （暴光） Developing （显影） Wet etching （湿蚀刻） Strip （剥落光阻胶） 五 TH PEP Coating Exposure （暴光） Developing （显影） Wet etching （湿蚀刻） Sttip （剥落光阻胶） 六 SL PEP Clenaing S/D Sputter（Sourse Date Line 溅镀） S/D Clean