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- 2019-10-23 发布于天津
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薄膜材料及其制备;概 念;组成 ;一、物理气相沉积-蒸发法;3. 化合物与合金的蒸发;A、B两组元蒸发速率之比;沉积均匀性;4. 真空蒸发装置;● 电子束蒸发装置
电阻加热的缺点:可能造成 污染;加热功率或加热温度有限,不适于高纯或难熔物质的蒸发。
电于束蒸发装置正好克服了电阻加热法的不足; 装置中,由加热的灯丝发射出的电子束受到数千伏的偏置电压的加速,并经过横向布置的磁场偏转270°后到达被轰击坩埚处。磁场偏转法可避免灯丝材料的蒸发对于沉积过程可能造成的污染。
其缺???是电子束的绝大部分能量要被坩埚的水冷系统带走。因而其热效率较低;另外,过高的加热功率也会对整个薄膜沉积系统形成较强的热辐射。;● 电弧放电蒸发装置
也具有避免电阻加热材料或坩埚材料的污染,加热温度较高的特点,特别适用于熔点高,同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发。同时,这一方法所用的设备比电子束加热装置简单,是一种较为廉价的蒸发装置。;● 激光蒸发装置
使用高功率激光束作为能源进行薄膜的蒸发沉积。显然,也具有加热温度高,可避免坩埚污染,蒸发速率高,蒸发过程容易控制等特点。多用波长位于紫外波段的脉冲激光器作为蒸发光源。
针对不同波长的激光束,需选用具有不同光谱透过特性的窗口和透镜材料,将激光束引入真空室,并聚焦至蒸发材料上。;二、物理气相沉积-
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