柔性低温多晶硅薄膜晶体管的弯曲稳定性-发光学报.pdf

第３８卷　 第９期 发　 光　 学　 报 Ｖｏｌ３８ Ｎｏ９ ２０１７年９月 ＣＨＩＮＥＳＥＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ ＬＵＭＩＮＥＳＣＥＮＣＥ Ｓｅｐｔ. ꎬ２０１７ 文章编号:１０００￣７０３２(２０１７)０９￣１２０５￣０５ 柔性低温多晶硅薄膜晶体管的弯曲稳定性 １ꎬ２ ３ ２ ∗ １ꎬ２ ２ １ꎬ２ 岳致富 ꎬ吴　 勇 ꎬ李喜峰 ꎬ杨　 祥 ꎬ姜　 姝 ꎬ许云龙 (１. 上海大学 材料科学与工程学院ꎬ上海　 ２０００７２ꎻ ２. 上海大学 新型显示技术及应用集成教育部重点实验室ꎬ上海　 ２０００７２ꎻ ３. 上海天马微电子有限公司ꎬ上海　 ２０１２０１) 摘要:研究了以聚酰亚胺为基板的ｐ型低温多晶硅薄膜晶体管在不同弯曲半径下的偏压稳定性ꎮ 当曲率半 径从１５ ｍｍ变到３ ｍｍ时ꎬ在拉伸弯曲状态下ꎬ阈值电压和平坦时保持一致(Ｖ ＝ －１.３４ Ｖ)ꎬ迁移率μ 从 ｔｈ ｓａｔ ２ ２ ４５.６５ ｃｍ / (Ｖ ｓ)降到４５.１７ ｃｍ / (Ｖ ｓ)ꎬ开关比增大ꎻ在压缩弯曲状态下ꎬ转移特性曲线和平坦状态保持 了非常好的一致性ꎮ 在最小弯曲半径为３ ｍｍ时ꎬ进行了正负偏压稳定性测试ꎬ结果表明ꎬ器件依然具有很好 的稳定性ꎮ 关　 键　 词:柔性ꎻ低温多晶硅薄膜晶体管ꎻ低温多晶硅ꎻ弯曲ꎻ稳定性 中图分类号:ＴＮ３２１　 　 　 文献标识码:Ａ　 　 　 ＤＯＩ:１０.３７８８/ ｆｇｘ１２０５ Ｂｅｎｄｉｎｇ Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｌｏｗ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｐｏｌｙ￣ｓｉｌｉｃｏｎ Ｔｈｉｎ￣ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｓ １ꎬ２ ３ ２∗ １ꎬ２ ２ １ꎬ２ ＹＵＥ Ｚｈｉ￣ｆｕ ꎬＷＵ Ｙｏｎｇ ꎬＬＩ Ｘｉ￣ｆｅｎｇ ꎬＹＡＮＧ Ｘｉａｎｇ ꎬＪＩＡＮＧ Ｓｈｕ ꎬＸＵ Ｙｕｎ￣ｌｏｎｇ (１. Ｓｃｈｏｏｌ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ ＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇꎬＳｈａｎｇｈａｉ ＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙꎬＳｈａｎｇｈａｉ２０００７２ꎬＣｈｉｎａꎻ ２. Ｋｅｙ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ ｏｆ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｄｉｓｐｌａｙ ａｎｄ ＳｙｓｔｅｍＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ ｏｆ Ｍｉｎｉｓｔｒｙ ｏｆ ＥｄｕｃａｔｉｏｎꎬＳｈａｎｇｈａｉ ＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙꎬＳｈａｎｇｈａｉ２０００７２ꎬＣｈｉｎａꎻ ３. ＴｉａｎｍａＭｉｃｒｏ￣ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ. ꎬＬｔｄ. ꎬＳｈａｎｇｈａｉ２０１２０１ꎬＣｈｉｎａ) ∗Ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇ ＡｕｔｈｏｒꎬＥ￣ｍａｉｌ:ｌｉｘｉｆｅｎｇ＠ｓｈｕ.ｅｄｕ.ｃｎ Ａｂｓｔｒａｃｔ:Ｔｈｅ ｂｉａｓ ｓｔａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ ｔｈｅ ｆｌｅｘ