硅垢阻垢剂及评价方法的研究现状.docVIP

0， 0，、“／、6，、^，、“／、^／、‘／k^，、‘，、^，一 ；分析与监测i々， ，、l^’Ⅳ；： 硅垢阻垢剂及评价方法的研究现状 闰岩 (北京燕山分公司研究院，邮编 102500) 【摘要】目前，国外硅垢阻垢剂的报导较多，其产品主要是应用在反渗透装置上为主．由于硅 垢一旦在反渗透膜上形成．就难以清除干净。因此，对于污水回用及高硅水的应用，对水处理提 出了高要求，国外的大公司纷纷推出了阻硅垢的阻垢剂，如美国清力公司的PTP-silica、Rohm and Hass公司的Acumer4800、贝迪(Betz)公司的AFl300。国内对硅垢阻垢剂的报导不多。80年 代中期铁道部科学研究院金化所曾研究出一种适用于高硅水地区蒸汽机车锅炉用的硅垢阻垢荆， 据说是氧化淀粉。其后国内有关硅垢阻垢分散剂的报导很少见到，实际上一旦有了高效硅垢阻垢 剂，不仅可以用来处理高硅水，而且对硅缓蚀剂水处理技术无疑是一个促进。硅酸盐作循环水中 的缓蚀剂有很多优点，如无毒、价廉、耐氯根侵蚀等；另外硅酸盐对铝的缓蚀效果也不错好，但 国外并未广泛应用，除了硅酸盐对碳钢的缓蚀效果比铬酸盐、钼酸盐、亚硝酸盐、聚磷酸盐较差 外，另一重要原因在于担心形成硅垢。1993年Suzanne 等报导说，用4 O～70mg／L的硅酸钠 使金属表面形成一薄膜，并不影响传热但足以保护设备免于腐蚀；Rohm and Hags公司推荐用牌 号为Acumcr4800聚合物作为防硅垢的酋选药剂，据称可使水中Si02的平衡浓度由180提高到 300mg／L。这些说明硅系水处理技术的研究有了新突破· 1国外硅垢阻垢剂的特点 由于反渗透在国内的大量应用，硅垢阻垢剂成为反渗透药剂研究的重点，由于分析 手段的问题，国内的反渗透药剂与国外相比，仍有差距。 2硅垢及其影响因素 硅垢包括Si02垢和硅酸盐垢，前者是无定形垢：后者主要硅酸镁垢，一般情况下也 是无定形的。L．Dubin等人研究了高硅水沉积的控制问题，认为硅垢产生的原冈有三种 机理： (”硅酸缩合形成胶体无定形Si02产生沉积： (2)SiO，胶体破坏后发生凝聚并形成垢： 380 (3)硅 (3)硅酸或硅胶与Al、ice、Mg、和ca反应产生沉淀，影响硅垢形成的因素是复杂 的。 表1硅垢阻垢剂的特点 特点 阻垢原理 问题 1、晶体修改型阻垢剂2、含磷类小分子 水中的过饱和离 1、一旦水中含有的金属离子成分 和浓度随原水水质发生变化则会 般 阻垢剂3、有机高分子直链型聚合物阻 子形成初期沉淀 垢剂4、所含磷成份因对膜带来生物污 晶体后．再通过 对膜带来致命的危害2、其直链型 阻 染的危害5、30．60PPM时在膜表面沉 修改晶体上面的 结构常常在膜系统流道及表面发 淀或附着6、马来酸，羟基酸，聚丙烯酸或 极性键基团来防 生自缠绕自粘连的现象3、在国内 垢 是磷酸盐的混合物。对膜系统潜在巨大 止其附着于膜表 已发生多次某些品牌阻垢剂加药 过量后造成膜无法恢复的污堵事 剂 的危害 面 4毕- 将水中各种金属 PWT J、采用树枝状聚合物技术，提高了纳污 离子在结合之前 阻垢的效果，克服了自缠绕自牯连的弊 就完全吸附并分 阻 病2、1 I倍高纯度液体浓缩产品和粉末 散，没有任何初 垢 产品3、100％不含磷酸盐或有磷成分， 期晶体生成，将 可避免RO系统的微生物污染，另外也可 危害膜元件的离 剂 以避免磷酸盐垢在膜上的沉积 子沉淀扼苯于其 生成的第一步 国外的反渗透药剂多为无磷产品。 2．1 pH对si02溶解性的影响 Si02在水中随pH值不同存在下列平衡中的某些反应，其反应式为： Si02+2I-120 d-Si(OH)4：(1) Si(OH)a+OH一一一H Si03+2H20(2) 2H Si03+-_+Si205}+H20(3) H Si03+OH一_+Si032’十H20(4) Si(OH)4+OH一一一SbOi+H20(5) H，Si 04+Si(OH)4+一—}(OH)3Si02Si(OH)3十OH’(6) pH值对上述化学平衡的影响很明显；当pH)3时，反应(2)(3)式已占主导；当 DH8～9时，这种缩合能力达到最大程度。pH10时反应(5)式是主要的，生成了水溶 性较好的原硅酸离予。25C时pH对Si02溶解度的影响见表1。从表中看到pH=10时Si02 溶解度才明显增高，而冷却水中pH～般8～9，这时缩会反应能力是最大的。由原硅酸 生成二缩体足慢过程，～日^形成。几乎立刻生成三缩体；生成四缩、五缩体的速率又较 慢，六编体形成时即开始出现侧基反心，彤成异构体并并交联，导致胶体Si02形成，最 终凝 终凝胶和成垢。 pH 25C(mg／L) 6～8 120* 9 138 9．5 J80