羟基是 致活基团 硝化反应的 相对速率 1000 1 0.033 6 × 10-8 反应活性 5.5.2 芳环上亲电取代反应定位规则的 理论解释(不讲) 5.5.3 二取代苯亲电取代的定位规则 当二取代苯进一步进行亲电取代反应 时,第三个取代基进入苯环的位置是由 已有两个取代基决定的。 当两个基团的定位作用相同时,第三个 取代基进入它们共同决定的位置: 当两个取代基定位作用方向不同时, 较强的致活基团起主要的定位作用: 对于烷基苯,两个烷基的致活效应相当时,第三个取代基进入空间位阻较小的位置。 (88%) 当两个取代基属于不同类时,一般由第一类定位基起主要作用。因为反应为亲电取代,第一类定位基使苯环电子云密度增加。 5.5.4 亲电取代定位规则在有机合成上的应用 (c) 磺化 (sulfonation) 苯与发烟H2SO4反应,生成苯磺酸: 三氧化硫 苯磺酸 (benzenesulfonic acid) (56%) 发烟H2SO4: H2SO4 和 SO3的混合物 较高温度下,继续反应生成间苯二磺酸。 烷基苯比苯易于磺化,生成邻对位取代物。 H2SO4 + 0o C 53% 43%
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