真空镀膜技术与离子镀膜.pptxVIP

第二章 薄膜制备技术2.1 薄膜的物理气相沉积2.2 薄膜的化学气相沉积2.3 富森钛金设备开发的溶液镀膜技术2.4 迪通恒业科技开发的外延制膜技术第一节 薄膜的物理气相沉积2.1.1 引言薄膜生长方法是获得薄膜的关键。薄膜材料的质量和性能不仅依赖于薄膜材料的化学组成，而且与薄膜材料的制备技术具有一定的关系。随着科学技术的发展和各学科之间的相互交叉, 相继出现了一些新的薄膜制备技术。这些薄膜制备方法的出现, 不仅使薄膜的质量在很大程度上得以改善, 而且为发展一些新型的薄膜材料提供了必要的制备技术。第二节 薄膜的物理气相沉积2.1.1 引言薄膜的制备方法可分为： 1、气相法 PVD：Physical Vapor Deposition，不伴随化学反应发生 CVD：Chemical Vapor Deposition，发生化学反应 2、非气相法（主要是液相）第一节 薄膜的物理气相沉积 电阻加热、弧光放电加热、感应加热、电子束加热、激光加热2.1.1 引言真空蒸发分子束外延固相外延物理气相沉积 （PVD）直流溅射、射频溅射、磁控溅射、离子束溅射溅射沉积直流二极型离子镀、射频放电离子镀、等离子体离子镀气相沉积 离子镀离子外延氢还原法、卤素输运法 化学反应法 化学气相沉积 （CVD）含氢化合物分解法、有机金属热分解法 热分解法 第一节 薄膜的物理气相沉积2.1.1