薄膜物理气相沉积Ⅰ蒸发法.pptVIP

影响薄膜纯度的因素 （1）蒸发源物质的纯度； （2）加热装置、坩埚等可能造成的污染； （3）真空系统中残留的气体，前面讲过杂质气体分子与蒸发物质的原子分别射向衬底，并可能同时沉积在衬底上。 改善薄膜纯度的方法： 1）依靠使用高纯物质作为蒸发源以及改善蒸发装置的设计； 2）改善设备的真空条件 3）提高物质蒸发及沉积速率。 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 真空蒸发法所采用的设备根据其使用目的可能有很大的差别，从最简单的电阻加热蒸镀装置到极为复杂的分子柬外延设备，都属于真空蒸发沉积装置的范畴。在蒸发沉积装置中，最重要的组成部分就是物质的蒸发源，根据其加热原理可以将其分为以下各种类型： 1、电阻式蒸发装置 2、电子束蒸发装置 3、电弧蒸发装置 4、激光蒸发装置 5、空心阴极蒸发装置 6、分子束外延 3. 1.10 真空蒸发装置 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 1、电阻式蒸发装置 （1）电阻加热蒸发法：采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状的加热装置（也称“蒸发源”，注意与“蒸发材料