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附件2
2019 年度广东省重点领域研发计划
“电子信息关键材料”重点专项
申报指南(征求意见稿)
为落实《“十三五”广东省科技创新规划(2016—2020年)》,
根据《广东省重点领域研发计划实施方案》,围绕国家重大战略、
重大工程核心需求、我省战略性新兴产业发展关键材料与技术支
撑需要,结合国际新材料前沿技术发展趋势,重点关注产业发展
需求程度高的关键领域,启动实施“电子信息关键材料”重点专
项。
本重点专项目标是:面向我省新一代信息技术等战略性新兴
产业对关键电子信息材料的迫切需求,强化重点领域关键材料的
自研自给能力,开展关键材料与核心器件攻关,全力抢占若干电
子信息材料的技术和产业战略制高点,逐步构建电子信息材料支
撑体系。
本专项按照芯片制造用光敏材料、芯片封装用陶瓷劈刀、高
品质聚酰亚胺、半导体溅射靶材四个专题共部署 5 个项目,每个
项目支持 1 项,实施周期为 3-4 年。申报时项目研究内容必须涵盖
该专题/项目下所列的全部内容,项目完成时应完成该专题/项目下
1
所有考核指标。每个专题/项目参研单位总数不得超过 10 个。本专
项要求企业牵头申报,项目完成时项目成果需实现量产和销售。
鼓励大企业联合创新型中小企业、高校、科研院所等,产学研联
合申报。
专题一:高端芯片减薄工序临时键合光敏材料及关键装备(专
题编号:)
研究内容:面向高端芯片/器件的高精度超薄晶圆级加工需求,
研发满足临时键合/解键合的光敏材料、关键设备及成套工艺。主
要研究内容如下:
(1)紫外激光响应材料的设计合成及配方研制;
(2 )临时键合胶材料的配方设计及性能研究;
(3 )整套临时键合材料的工艺验证;
(4 )紫外激光拆键合设备的开发。
考核指标:
(1)紫外激光响应材料:
热稳定性大于 400 ℃ (TGA ,5 wt%失重时温度);涂覆层
厚度500 nm ,且厚度可调;涂覆层紫外吸收率>95% (308
nm-UV ),涂覆层紫外吸收率>80% (355 nm-UV ); 355 nm-UV
吸收率批次波动性小于 5% ,低温储存条件下质量稳定性大于6 个
月以上,材料产能达 120 升/ 月。
(2 )临时键合材料:
2
热稳定性大于 380 ℃ (TGA ,5 wt%失重时温度),玻璃化
转变温度低于 80 ℃;杨氏模量小于 1.5 GPa;涂覆层厚度40 μm ,
且厚度可调;键合温度小于 200 ℃,键合压力小于5 kN ;8 寸晶
圆激光解键合温度小于40 ℃,单片激光解键合时间小于 60 秒;
批次波动性小于 5% ,质量稳定性大于 6 个月以上,材料产能达 200
升/ 月以上。
(3 )紫外激光拆键合设备:
加工前兼容产品尺寸:8 英寸,12 英寸;兼容产品厚度:0.05
mm~1.0 mm ;激光波长:355 nm ;脉冲能量:1 mJ@355 nm;脉
冲功率稳定性:1%@355 nm ;设备UPH (每小时加工的12 寸晶
圆)大于30 ;光斑均匀性大于90% ;可支撑 8 英寸、12 英寸晶圆
减薄厚度至 50 微米以下。
(4 )项目成果材料和设备在广东实现量产,实现新增产值 2
亿元以上。
支持方式:无偿资助。
专题二:IC 芯片封装用陶瓷劈刀材料及应用研究
研究内容:
(1)高性能劈刀核心参数的研究与制造装备的开发
基于芯片封装用陶瓷劈刀型号和种类,研究劈刀关键尺寸与
键合力、抗压、抗弯以及抗锤击等的影响规律,开发高性能劈刀
制造设备。
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