材料表面和界面研究生教案.ppt

* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 六、电子诱导脱附 电子轰击表面，可引起表面吸附杂质的带电或中性粒子的脱附以及分解、化学反应等。 电子诱导脱附离子及中性粒子，一般在初级电子能量10-100eV条件下发生。 7.2 离子与表面作用 一、基本过程 离子与表面作用的基本过程包括：散射、注入、再释、溅射、表面损伤、光及电子发射、电离与中和、表面化学反应及表面热效应等。下图为示意图。 表面 3 1 2 1---发射区；2---注入区；3---晶格扰动波及区 三、离子溅射 四、次级离子发射 五、离子引发电子 二、离子散射 在低能0.2-2KV及高能106V时，主要发生离子散射，而在中能范围，主要表现为溅射。 在离子溅射中含有一部分带有正、负电荷的离子，即为次级离子，它带有表面的信息，可用来作表面成分分析。 离子散射、离子溅射等都可能导致电子的发射，如电离、俄歇中和、俄歇退激发等。 7.3 光子与表面作用 一、光电发射的基本原理 二、光电发射特性 光