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TFT-LCD设计及制作 Glass基板 保護膜 Cr：Black Mask Red,Green,Blue CF層 ITO電極 CF的构成：透过型TFD TFT-LCD设计及制作 液晶Panel的構造：Passive color Polarizer Retardation Film Data Line Electrode Pixel Electrode LC layer Al Refrector Glass substrate Polarizer Retardation Film Electrode Glass substrate Backlight Unit RGB color filters Front Scattering Film TFT-LCD设计及制作 CF的构成： Passive反射color Glass基板 保護膜 Black Mask：樹脂BM Red,Green,Blue CF層 ITO電極 反射板：Al TFT-LCD设计及制作 彩色滤光片基本原理 彩色滤光片基板构造 彩色滤光片的材料及其特性 彩色滤光片制程 彩色滤光片发展趋势 TFT-LCD设计及制作 彩色滤光片的材料及其特性 *彩色滤光片所使用的光阻剂墨汁(Resist Ink)又称为彩色光阻剂(Color Resist)，其基本组成是颜料、分散剂、添加剂、接合树脂和反应性稀释剂等单体，包含光聚合启始剂和溶剂等物质，作为红、绿、蓝三原色的着色材料。 *彩色滤光片制造中所使用的耐热性有机颜料和无机颜料。 TFT-LCD设计及制作 TFT-LCD设计及制作 所使用的材料则是以颜料性化合物为主，其分子结构如下页图 颜料构造有Azo系、Phthalocyanine系和各种混合多环系，从不同的特性、产品的功能和制程等考虑而使用不同的混合物。 *一般所使用的颜料，有结晶形态，2~3个结晶粒子的一次粒子形态，或其凝集体的二次粒子形态，通常要求条件是其平均粒径在0.1μm以下。 TFT-LCD设计及制作 *接合树脂材料是耐旋光性和透明性好的甲基压克力树脂，架桥性的单体的多官基压克力，而光聚合启始剂则是二甲苯系化合物。 最初的颜料分散彩色光阻剂的性质，是透过率最低的、消偏性大的、流动性因时效而劣化等粒子分散系化合物特有的问题，其耐旋光性、耐热性和色材安定性等都应评估并提出改善之道。 TFT-LCD设计及制作 颜料化合物分子结构图 TFT-LCD设计及制作 彩色滤光片的色特性取决于彩色光刻胶的物性，而彩色光刻胶的色特性则受颜料成份影响很大，其它用于使颜料分散的成份则影响不大；颜料化合物的混合应从色再现性和透过率来考量且需满足： 1.RGB膜的光谱透过率的尖峰值，应与RGB等色系数及背光源的亮度线吻合的。 2.RGB膜的光谱透过率尖峰值的高度和宽度应决定其两项要点。 TFT-LCD设计及制作 *光谱透过尖峰值的位置取决于色相和光源的光谱值，若色相能决定的话，则最明亮及鲜明色的光谱透过率可求得理论值，在各色相上其理想的光谱透过率是呈尖锐的矩形形状，光谱透过率呈尖锐地分布状态时，则从经验和理论上均可得知颜料的化学结构和粒径大小。 TFT-LCD设计及制作 背光光源与彩色滤光片之分光特性图 TFT-LCD设计及制作 光的特性与颜料的化学结构和粒径大小有相当地关系，不同化学结构的颜料将放射出不同的波长的光源和色泽，颜料粒径的尺寸大的话，则因表面反射及光散射等影响，而无法得到尖锐分布的光谱透过率，因此粒径变小的话将有利其光特性。 色彩色光刻胶的消偏性几乎是取决于色材膜中颜料的散乱面积，而散乱面积则是取决于颜料和结合剂的折射率比值，以及颜料本身粒径大小，在折射率比值小的颜料粒径小的情况下，其散乱面积将减少而消偏性有可能地提升，但事实上颜料之比表面积大的话，其消偏性将受到抑制而对比性有所提升。 TFT-LCD设计及制作 色再现性即是色度图中的三原色区域宽度，一般个人计算机用的为35~40%，而监视器用的为50~65%，一般CIE1931色度坐标规格比较图，如下表 TFT-LCD设计及制作 彩色滤光片的遮光层的作用为光的遮敝功能，以防止入射光的泄漏而影响其色泽性，也就是其目的在于对比性提高和防止色纯度降低，而于着色画像素间形成一遮光层，而特性要求为高遮旋光性和高精密化。其功能要点如下： 1.将开口部以外之部份的背光源的光予以遮敝，并进而提升其表示对比值。 2.防止遮光层邻近RGB次画像素的混色以及防止色纯度的降低。 3.防止因表示背景光的投影效应而造成对比值下降。 4.防止因光电流效应而影响薄膜晶体管信号传送动作的完整性。 TFT-LCD设计及制作 基于此些因素而要求彩色滤光片的遮光层能朝向高的遮光层率、低的反射率和微细图案特性等方向考虑，而一般遮光层所使用的材料是金属铬单层