最全的各种薄膜制备.pptxVIP

12.1 薄膜的特征与分类;种类： （1）以材料种类划分：金属、合金、陶瓷、半导体、化合物、高分子薄膜等。 （2）以晶体结构划分：单晶、多晶、纳米晶、非晶 （3）以厚度划分：纳米薄膜，微米薄膜和厚膜。 （4）以薄膜组成结构划分：多层薄膜，梯度薄膜，复合薄膜。 应用： 光学薄膜、微电子薄膜、光电子学薄膜、集成电路薄膜、防护功能薄膜。 ;薄膜的制备方法;12.2 蒸发镀膜;1、蒸发镀膜的装置与过程;2、真空度;3、蒸发温度;;二、蒸发源和蒸发方式;2、电子束蒸发源;3、激??蒸发源;三、合金与化合物的蒸镀 ;2、化合物蒸镀;四、蒸镀特点与用途 ;12.3 溅射镀膜;一、溅射镀膜的原理;溅射原理： 溅射完全是动能的交换过程，是发生了级联碰撞的结果。;2、溅射速率和溅射能量;二、气体的辉光放电示意图;三、溅射镀膜的工艺方法;2、射频溅射镀膜;3、三极溅射与磁控溅射;磁控溅射原理图;4、合金溅射和反应溅射;四、溅射镀膜的生长特点;五、溅射的用途;TiN，TiC等超硬镀层;在高温、超高真空、射线辐照等特殊条件下工作的机械部件不能用润滑油，只有用软金属或层状物质等固体润滑剂。 常用的固体润滑剂有软金属(Au，Ag，Pb，Sn等)，层状物质（MoS2，WS2，石墨，CaF2，云母等），高分子材料（尼龙、聚四氟乙烯等）等。 其中溅射法制取MoS2膜及聚四氟乙烯膜十分有效。 ;12.4 离子镀膜;一、离子镀膜的原理和装置;2．离子镀的类型和特点;二、离子镀膜层的特点 1、离子轰击对基片和膜/基界面的作用 2、离子轰击对薄膜生长的作用 3、绕射性;3．离子镀的应用 ;12.5 化学气相沉积（ CVD） ;热分解反应;CVD的化学反应温度一般在800-1200℃，较高的反应温度限制了基片材料的选择，并给薄膜和薄膜基片复合体结构和性能带来不利的影响，如基体材料的相变及由高温冷却到室温时产生的热应力等。 为降低CVD的温度，开发出一些新型CVD技术。如等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)、电子束辅助化学气相沉积(EACVD)、激光束化学气相沉积(LACVD)和金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)等。;等离子辅助化学气相沉积（PACVD）;电子束辅助化学气相沉积(EACVD)和激光束化学气相沉积(LACVD);金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）;PVD和CVD两种工艺的对比;PVD和CVD两种工艺的对比;PVD和CVD两种工艺的对比