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2/20/2020 磁控溅射镀膜技术综合介绍 - 百度文库 网页 资讯 视频 图片 知道 文库 贴吧 采购 地图 | 百度首页 登录 VIP新客立减2元 意见反馈 下载客户端 一磁控溅射电镀 一磁控溅射电镀 80 上世纪 80年代开始，磁控溅射技术得到迅猛的发展，其应用领域得到了极大的 上世纪 年代开始，磁控溅射技术得到迅猛的发展，其应用领域得到了极大的 会员中心 首页 分类 精品内容 申请认证 机构合作 频道专区 推广。现在磁控溅射技术已经在镀膜领域占有举足轻重的地位，在工业生产和科学 推广。现在磁控溅射技术已经在镀膜领域占有举足轻重的地位，在工业生产和科学 领域发挥着极大的作用。正是近来市场上各方面对高质量薄膜日益增长的需要使磁 领域发挥着极大的作用。正是近来市场上各方面对高质量薄膜日益增长的需要使磁 百度文库 专业资料 工程科技 材料科学 控溅射不断的发展。在许多方面，磁控溅射薄膜的表现都比物理蒸发沉积制成的要 控溅射不断的发展。在许多方面，磁控溅射薄膜的表现都比物理蒸发沉积制成的要 好；而且在同样的功能下采用磁控溅射技术制得的能够比采用其他技术制得的要厚。 好；而且在同样的功能下采用磁控溅射技术制得的能够比采用其他技术制得的要厚。 因此，磁控溅射技术在许多应用领域包括制造硬的、抗磨损的、低摩擦的、抗腐蚀 因此，磁控溅射技术在许多应用领域包括制造硬的、抗磨损的、低摩擦的、抗腐蚀 的、装潢的以及光电学薄膜等方面具有重要是影响。 的、装潢的以及光电学薄膜等方面具有重要是影响。 ,, 磁控溅射技术得以广泛的应用 是由该技术有别于其它镀膜方法的特点所决定 磁控溅射技术得以广泛的应用 是由该技术有别于其它镀膜方法的特点所决定 :: ,, 的。其特点可归纳为 可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料 包括各种金属、 的。其特点可归纳为 可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料 包括各种金属、 ,, ,, 半导体、铁磁材料 以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质 尤其适合高熔点和低蒸汽压的材 半导体、铁磁材料 以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质 尤其适合高熔点和低蒸汽压的材 ,, 料沉积镀膜在适当条件下多元靶材共溅射方式 可沉积所需组分的混合物、化合物薄 料沉积镀膜在适当条件下多元靶材共溅射方式 可沉积所需组分的混合物、化合物