TSMC65nm工艺中lvt_nch器件的一些参数仿真.docVIP

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  • 2020-03-12 发布于安徽
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TSMC65nm工艺中lvt_nch器件的一些参数仿真.doc

TSMC65nm工艺中lvt_nch器件的一些参数仿真 nmos管的特征频率 特征频率是每一种工艺下的非常重要的参数,它的定义是当电流增益降到1时所对应的频率。因此我们采用如图1所示的电路图进行仿真。 图1.特征频率测试电路图 说明:图中的电感的作用是使在直流情况下通过,交流情况下断开;电容是使理想电流源直流情况下断开,交流情况下通过。的AC Magnitude取值为1A,这样做的好处就是只要测出电流,它在数值上是与电流增益一致的。用探针和分别测出和,则,作出随频率变化的曲线,找出=1时对应的频率值就是我们想要知道的特征频率。这里我们对不同的直流偏置进行了扫描,得到的波形如图2所示: 图2. 随频率以及Vgc的变化曲线簇图 由于cadence软件的CROSS函数未能正常使用,所以数据读取时是采用肉眼读取,例如,当Vgc取0.8V时,当=1时对应的频率大概是150GHz。特征频率是一个重要的指标,它说明在电路中,工作的频率最大大概是特征频率的1/3到1/4,超过这个值电路就不能正常工作,所以再设计电路的时候要非常注意。 nmos管的特性曲线 特性曲线表示的是漏端电流跟和的关系,具体的测量电路如图3: 图3.特性曲线仿真电路图 说明:先对进行参数DC扫描,扫描范围在0-1.2V;接着再进行参数分析,从0-1.2V,步数为13步。仿真结果如图4: 图4. 特性曲线图 从图4中可以看出,在

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