微电子工艺3外延讲解.pptVIP

x S E e N x N ? ? ? ) ( 假设 1 ： 外延层生长时 外延剂中无杂质 ， 杂质来源于 自掺杂效应 ) 1 ( ) ( 0 x E E e N x N ? ? ? ? 假设 2 ： 衬底杂质无逸出（或认为衬底未 掺杂） ) 1 ( ) ( 0 x E x S E e N e N x N ? ? ? ? ? ? ? 界面杂质叠加的数学表达式为 外延层杂质浓度分布计算 生长指（常）数 Φ ? Φ (cm -1 ) 由实验确定。 ? 与掺杂剂、化学反应、 反应系统，及生长过程 等因素有关 : As 比 B 和 P 更易蒸发 ; SiCl 4 反应过程中的 Φ 要 比 SiH 4 的小 ; 边界层越厚， Φ 就越大。 互 扩散效应 ( Outdiffusion) ? 互（外）扩散效应，指在衬底中的 杂质与外延层中的杂质在外延生长 时互相扩散，引起衬底与外延层界 面附近的杂质浓度缓慢变化的现象。 ? 不是本征效应，是杂质的 固相 扩散 带来。 ? 若杂质扩散速率远小于外延生长速 率，衬底中的杂质向外延层中扩散， 或外延层中杂质向衬底中的扩散， 都如同在半无限大的固体中的扩散。 ? 当衬底和外延层都掺杂时，外延层 中最终杂质分布 + 对应 n/n + （ p/p + ） - 对应 p/n