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东北大学
机械工程与自动化学院
真空与流体工程研究中心
?
张世伟
?
?
2002年6月
;Preface ;;;重点内容:
1.各种镀膜原理、镀膜源结构
principle and structure
2.各种镀膜设备结构设计及镀膜工艺
design and technology
?
达到要求:
1.能够设计和使用镀膜设备
2.为从事真空镀膜技术研究工作打下基础 ;第一章:概述
Ch.1 Outline ;?
1.??1材料科学导论
Introduction to material science
1) 材料的利用 Usage of materials
(1)体性能 body properties
如受力构件和承载件的强度; 结构件和保温层的体积
(2)面性能 surface properties
光学的性能—色彩、亮度、反射率
表层的性能—化学耐腐蚀性 机械硬度 耐磨性 钎焊性能 ;1.??1材料科学导论 (续)
Introduction to material science
2)表面改性技术 Surface modification technologies
改变材料面性能
(1)添加法 涂层技术 喷涂 刷镀 涂漆 镀膜技术
(2)去除法 溅射 刻蚀
(3)改良法 不增不减
各种热处理技术 激光表面淬火 合金化 渗碳 渗氮 化学热处理离子注入
3)镀膜技术 Coating technologies
(1)湿法镀膜 Wet-lay-up电镀、化学镀、L-B方法设备简单 膜层牢固度差 有环境污染
(2)真空镀膜 Vacuum coating
;1.2 真空镀膜技术及特点
Vacuum coating technology and its characteristics
?
1)?定义definition :
如前
2)特点Characteristics:
与湿法镀膜相比,见P1
(1)膜层质量好:纯度,膜厚均匀,致密性,强度
(2)膜材和基体材料选择性广泛
(3)膜层功能广泛
(4)对环境无污染
;1.3 真空镀膜技术的分类Classification of vacuum coating technology ;1)物理气相沉积 Physical Vapor Deposition — PVD ;2)化学气相沉积 Chemical Vapor Deposition — CVD ;3)物理化学气相沉积 Physical-Chemical Vapor Deposition — P-CVD (区分) ;1.4 薄膜的应用Application of thin film;1)光学薄膜 ;2)装饰膜 ;建筑装饰品 ;4)塑料制品的金属化 ;5)卷绕镀膜 ;6)电子工业 ;7)机械工业 ;8)能源工业 ;9)功能薄膜 ;信息工业 ;(2)仪器仪表工业: ;1.5 常用术语 ;镀膜室 Coating chamber
基片(基体、工件)
substrate
基片架 substrate carrier
基片转架
膜层 film 膜材成分
镀膜源Sources
蒸发源 Evaporation source
靶 Target 靶材成分
???距 靶基距
source-substrate distance
工作气体(放电气体)
discharging gas
反应气体;思考题
1. 名词解释
PVD,CVD,PECVD,
MW-CVD,HCVD
2.在右图中标出各部分结构的名称;THE END
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