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四、電鍍 : 4-4-3 電鍍基礎知識介紹 *光澤劑( Brightener:使鍍層光澤,結晶顆粒細緻,有助於鍍層物理特性的改善, 同時影響鍍銅之沉積速率.通常是有機硫或氮的化合物 *平整劑( Leveler :為低電流區的光澤劑,對於輕微的孔璧不良,具有修平之 作用,通常為氨類、亞氨類或含氨基類之化合物、聚合 物. 9.Throwing Power: 當電鍍進行時,因受陰极被鍍物外形的影響,造成“原始電流分佈”(Primary Current Distribution的高低不同,進而造成鍍層厚度的差異.此時可在槽液中添加各種有機助 劑(如光澤劑、整平劑、潤濕劑等,使陰极表面原有之高電流區,在各種有機添加劑 的影響下,使其鍍層增厚之速度得以減緩,從而拉近其與低電流區之厚度差異.在這 種槽液中,有機添加劑能改善鍍層厚度分佈的情形,稱此種“改善能力”為槽液的“分 佈力( Throwing Power ” . 10. Aspect Ratio 縱橫比: 在電路板工業中是指“通孔”本身的“長度”與“直徑”二者之比值,也就是板厚 與孔徑 之比值,以現有之制作水準而言,比縱橫比在 6 /1以上者,即屬高縱比的深孔, 其鑽孔及鍍通孔制程都比較困難 .
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