激光制备薄膜技术教学提纲.pptVIP

“ ” “ ” 激光制备薄膜技术——薄膜性能控制 【先导篇】*什么是激光制备薄膜技术激光器所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于靶材料表面,使靶材料表面产生高温及熔蚀,并进一步产生高温高压等离子体,这种等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积而形成薄膜。 *为什么要采用激光技术 1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 对靶材的种类没有限制； 4. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料； 5. 极大的兼容性，多层膜。 *如何制备的呢四个典型的特征阶段来加以描述。第一个阶段为激光能量输人,靶面温度急剧升高;第二个阶段为表面熔化,靶材气化;第三个阶段为多光子电离,等离子体产生;第四个阶段为等离子体的发射、碰撞及其扩展。扩展等离体到达样品表面,即完成镀膜过程。 技术难点附着力 影响附着力的工艺因素 工艺因素很多，其中主要有：基片材料性质、基片表面状态、基片温度、沉积方式、沉积速率等 关键点：在薄膜对基片的附着中，普遍存在着范德华力，但这种力较弱。要形成牢固的附着，需要在薄膜和基片间形成化学键。 *基片的表面状态基片的表面状态对附着力的影响也很大。如果基片不经过清洁处理，将在其表面上有一个污染层。它可能是吸附的气体层，也可能是油脂分子层。由于吸附层已经使基片表