半导体集成电路59页文档.pptVIP

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  • 2020-06-23 发布于天津
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? 4 、 CMOS 设计规则分类?请分别给予解释。 ? 设计规则又称为布局规则,用于规范晶体管沟道、接触孔、通孔、 有源区、金属连线、多晶硅等层次的 最小尺寸及间距参数 ,以保 证集成电路功能的正确性,也保证集成电路的成品率。设计规则 具有工艺针对性,如 TSMC 0.35 2P4M CMOS 工艺,但是不同 厂家的同种工艺水平的设计规则也不完全相同,如 TSMC 0.35 CMOS 设计规则和 NEC 0.35 CMOS 设计规则就存在很大的区别。 ? 设计规则分为: Micro 规则、 λ 规则、 α 与 β 规则。 Micro 规则是直接以规定的实际尺寸大小来表示 的, λ 规则是以单一参数 λ 来线性表示尺寸,相 当于集成电路生产的制造分辨率, α 与 β 规则分 别定义最小的网格线大小与基本的形状大小。目 前,最常用的设计规则为 Micro 规则和 λ 规则, 有些 λ 规则是从 Micro 规则得到的。 第一章基本内容回顾 ? 1 、 PN 结结构和工作原理 ? 2 、 MOS 器件的电路符号 ? 3 、 NMOS 、 PMOS 的断面结构图 ? 4 、 N 沟增强型 MOS 管工作在不同区域时的沟道 电流(大信号特性中参数的计算) ? 5 、 NMOS 小信号等效电路

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