原创力文档- 1、本文档共87页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
低温实验
磁控溅射镀膜技术的
基本概念与应用
(学习班讲稿)
报告人:+范垂祯
2004年6月
豪威利技集刚)有限公
引
荷能粒子.(例如氩离子)轰击固体表
面,引起表面各种粒子,如原子、分子
或团束从该物体表面逸出的现象称“溅
射”。在磁控溅射镀膜中,通常是应用
氩气电离产生的正离子轰击固体(靶),
溅贱出的中性原子沉积到基片(工件)
形成膜层,磁控溅射镀膜具有“低温”
和“快速”两大特点。
豪威利技集刚)有限公
Y丫
白日·羁|4卜M‖◆变阴1%面四彐
Pima So.Eadtrars
w Patee
by free lons hitting a Solid
Boas Deasopgion State Surface
Thrmal-
for
0O cv cnergy
100
Atomic number
LS E SHLE 16
豪威利技集刚)有限公
溅射镀膜技术是真空镀膜技术中应用
最广的正在不断发展的技术之
豪威利技集刚)有限公
Useful Processing Technologies in Optics and Electronic
Pressure [ mbar Technology Ap
1000
Amorphous Si for Solar Technology
100
apor
positon
Microelectronics (LPCVD) Si3N4, Si02
Etching
Structuring of ICs
( Rigid MC
t on of semiconductors
Sputtering
rchitectural glas
Superconducting Layers
HE
OpHthalmic and Precision Op
Molecular Beam
GAas Technique for extremely fast ICs
331175口HC回
圃廾必盎⊙‖动查分系,广。F4
国1:
文档评论（0）