光学薄膜理论培训1 利达光电 精选文档.pptVIP

（ 3 ）真空度 ① 真空度的高低使沉积分子产生碰撞的情况不同，造成蒸汽分子到达基底的动 能不同，形成膜层的致密程度不同。 ② 提高真空度，可提高膜层的致密性，减小膜层的吸收。 ③ IR 、 AR 膜系的设定真空度一般是多少？ （ 4 ）充氧 ① 在镀膜过程中，有许多氧化物容易失去部分的氧，造成薄膜的吸收。 ② 冲入适当的氧气，有利于减少膜层吸收。 ③ OS-50 no IAD 、 SiO2 、 MgF2 、 H4 时的充氧一般为多少？ 3 、 膜层厚度均匀性 （ 1 ）影响因素： ①膜料的纯度、是否受潮，以及形状、高低、加料的虚实等。 ②坩埚位置是否偏。 ③光斑的大小、形状、位置。 ④修正板装配是否到位、升降是否正常、有无变形。 ⑤盘、工装有无变形，是否放置到位。 ⑥真空度的高低。 ⑦基板温度的高低。 ⑧蒸发速率的快慢。 ⑨充氧的大小。 ⑩使用 IAD 的，离子源安装是否到位。 3 、 膜层厚度均匀性 （ 2 ）修正板的修剪方法 ① 使用拉线法将修正板划分为与盘上每一圈对应的区域。 ② 做单层，一般为 550nm 的 3~7 个极值。 ③ 根据单层曲线找出一直列样品中每一圈的波峰（或波谷）的波长。 （注：尽量选择接近控制波长的那组波