清华大学材料显微结构分析08-扫描电子显微镜.pptVIP

材料显微结构分析方法 清华大学研究生课程 VII. 扫 描 电 子显 微 镜 Scanning Electron Microscopy （ SEM ） 特点： ①分辨率比较高，二次电子象 50 ～ 60? ②放大倍数连续可调，几十倍到二十万倍 ③景深大，立体感强 ④试样制备简单 ⑤一机多用 VII. 扫 描 电 子显 微 镜 一 . SEM 结构及成象原理 扫描线圈 镜筒 SEM 屏幕 ? B CRTe 样品 ? B e SEM 器 换 变 大 放 描 扫 步 同 栅极 CRT 器 大 放 频 视 B e SE i SC i T i BS i Ray X ? T E ? EDS ) ( Li Si 扫描线圈 中的 CRT ) / ( 成份 形貌 信号 ? ) \ ( 亮度 位置 信号 ? * 电子束参数： 束流 i ： 10 － 12 ～ 10 － 6 A 束斑直径 d ： 50? ～ 1 ? m 发 散 度 : ( 立体角 ) 2 2 2 2 ) ) ( ?? ? ? ? r D A S r （ 距离 束斑发射面积 球面度 2 4 10 10 ? ? ? 2 2 2 4 ? ? ? d i ＝ KT eE J C ? ? ＝ 电子束亮度： 亮度方程： ** 扫描系统： X-Y ** 扫描方式 ①线扫描， X 扫描， Y 调制 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 方向高度 中 检测器获得信号调制 屏幕 中电子束 试样 电子束 同 步 扫 描 Y CRT CRT CS 制备陶瓷涂层 与基体的界面 形貌及元素分布 陶瓷 涂层 金属 ** 扫描系统： X-Y ** 扫描方式 ①线扫描， X 扫描， Y 调制 ②面扫描： 用 CRT 上相应点 的亮度显示试样上 对应点的显微结构 信号 . PMN 陶瓷中的 Mg 分布 A C B D YS 涂层显微组织 SEM 照片 A Element Weight% Atomic% O K 53.03 65.56 Al K 46.97 34.44 Totals 100.00 D Element Weight% Atomic% O K 49.22 63.65 Al K 43.22 33.14 Fe K 6.70 2.48 Si K 0.77 0.57 Totals 100.00 D ：铁铝尖晶石相 (FeO· Al 2 O 3 ) 莫来石相 (3Al 2 O 3 · 2SiO 2 ) A:Al 2 O 3 ③点扫描： * 放大倍数： L ： l ： M 由调节线圏的偏转控制 S 大小实现， l L M ? 不必改变透镜的聚焦的激磁电流。 mm l X M 1 . 0 1000 ? ? 时 ， 当 上的扫描面积 Sample 2 01 . 0 mm S ? 通常 即在某一 M 下， CRT 可分辨的最小尺寸， 图象元素： m d CRT ? 100 min ? M P d e CRT ? ? 所以 Pe 与 M 之关系 : m P e ? 1 . 0 ? 当 M =1000X 时 : M d P CRT e 直径） ( min ? CRT 荧光屏尺寸 100mm 电子束在样品上的扫描长度 有效放大倍数： 即 Pe 与束斑 d samp 必须相适应 ： e samp P d ? e samp P d ? 当 : 虚放大，不可分辨 m d d d M B B e e CRT ? 2 10 1 ? ? ? 有 效 M d P CRT e 直径） ( min ? 景深 D ： 即试样有一定起伏时，能使上下各 部都获得同时聚焦的深度。 r D ? ? ? 2 1 M mm r D ? ? ? ? ? ? / 2 . 0 2 M mm P e / . 1 0 ? ? ，图像清晰 即应有 M / mm . r 1 0 ? ? r D D . W R 2 光学聚焦面 扫描方向 B e 图像有效聚焦范围 R M / D . W mm . D ? ? ? 2 0