高功率电力电子之宽禁带功率半导体发展(下).pptx

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宽能隙半导体简介 SiC 二极管 SiC MOSFET GaN HEMT 组件 结论;Known SiC MOSFET ;Power MOSFET structure;MOSFET IV;Switching charge & power;Comparing with IGBT;Comparing with Si-SJ-MOSFET;;动态切换因素主要影响因子为Vth,由于Vth的变化会影响组件在并联时开关的先后顺序,且Vth为负温度系数,肇因于低Vth的组件由于整体导通时间将比高Vth组件长,成更高的温升以及更低的Vth,在并联上具有困难 解决方法主要有两种: 并联时选择之MOSFET组件其Vth应尽可能接近,避免Vth变化所带来之不良影响 加快MOSFET切换速度参数,更大的Gate Driver电流,更小的Ciss以及RG可以加速开关的turn on及turn off,进而减少Vth之差异所造成之切换时间差,改善并联均流特性;;Gate Driver for SiC MOSFET;Gate Driver for SiC MOSFET – 参考驱动电路 example : UCC2753X Series;Gate Driver for SiC MOSFET – 参考驱动电路;Gate Driver for SiC MOSFET – 参考驱动电路 example : IXDD609;Product List;Package Types;Hybrid Power Module (Hestia);Si, Hybrid SiC, All SiC模块功耗比较;Si CoolMOS + SiC Diode;瀚薪发明的SiC MOSFET 器件;Current and Future Work ;Output Characteristics (1700V, SiC MOSFET);Blocking Characteristics (1700V, SiC MOSFET);3300V SiC MOSFET Product Development;瀚薪的产品已经应用在新能源汽车 (SiC Power Module);Hestia’s 1200V SiC IPM (P1C120TB020S63); 宽能隙半导体简介 SiC 二极管 SiC MOSFET GaN HEMT 组件 结论;16-11-22;Key Issue of GaN HEMTs ;; ;GaN/Si Stress Engineering;;;;Component Type;Component Type;38;Hestia Power Incorporated 10F.-2, No.27, Guanxin Rd., Hsinchu City 30072, Taiwan R.O.C. TEL: +886-3-563-5766 FAX: +886-3-563-3066 e-mail: Amanda.Yang@Hestia-P CY.Lee@Hestia-P Sales@Hestia-P WEBSITE: /

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