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（技术规范标准）三氯氢 硅四川省质量技术监督局 XXXX 发布的标准 1 A.4.5 取少量 SiHCl3 样品在预先准备好的小石英安瓿瓶内，用 1ml 注射器抽取SiHCl3 液体样品约 0.02ml ，迅速注入进样口，样 品在载气推动下送入色谱柱进行分离，通过检测器...本文档由YY198308 收集整理。 DB511100/T21-2010 四川省乐山质量技术监督局 发布 2 前言 本标准按照GB/T1.1-2009 《标准化工作导则第1部分：标准的结构和编写》给出的规则 起草。 本标准的附录A 、附录B为规范性附录。 本标准由四川省乐山质量技术监督局提出。 本标准由乐山市产品质量监督检验所归口。 本标准起草单位：乐山市产品质量监督检验所、峨嵋半导体材料研究所、峨嵋半导体材 料厂。 本标准主要起草人：丁国江、胡乐莎、陈颖、张瑛、何兰英、文英、郑孝桃、张梅、李 江涛 本标准于2010年1月10日首次发布，2月10日实施。 三氯氢硅 1　范围 本标准规定了三氯氢硅的定义、技术要求、试验方法、检验规则、运输、贮存、标志、 质量证明书和订货文件。 本标准适用于氯化氢和工业硅合成的用于制备太阳能级、集成电路级硅多晶的三氯氢硅。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本 适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T2881工业硅 GB5138工业用液氯 GB/T7445纯氢、高纯氢和超纯氢 3 定义 三氯氢硅（硅氯仿）：无色透明液体，极易挥发，易燃，具强腐蚀性、强刺激性，可致 人体灼伤，溶于苯、醚等多数有机溶剂。熔点：-134℃，沸点：31.8℃。 4 技术要求 4 ．1 外观为无色透明液体。 4 ．2 三氯氢硅含量要求见表 1 表 1 三氯氢硅含量要求 名称(V) 要求（%） SiHCl3 ≥99 SiH Cl ＜1 2 2 HCl ＜1 SiCl4 ＜1 注：用户对产品的含量如有特殊要求，可由供需双方自行商定。 4 ．3 痕量杂质含量要求见表 2 表2痕量杂质含量要求 名称(V) 要求（ppba） B ≤400 Fe ≤100 Al ≤30 Cu ≤20 Cr ≤20 Ni ≤20 Co ≤1