基于纳米压印的片上聚二甲基硅氧烷微环腔实验研究.pdfVIP

基于纳米压印的片上聚二甲基硅氧烷微环腔实验研究.pdf

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
中文摘要 摘 要 回音壁微腔因其具有超高的品质因子、超小的模式体积等优势在传感检测、 非线性光学、激光器和量子信息等领域具有潜在的应用价值。其中,片上回音壁 微腔因可以实现与其他器件的兼容与集成而受到广泛关注。为了提高片上回音壁 微腔的实用化,其制备方式需要满足高效率、低成本和大规模生产等要求。基于 此,本文提出一种利用纳米压印技术制作基于氟化镁(MgF )衬底的聚二甲基硅 2 氧烷(Polydimethylsiloxane ,PDMS )微环谐振腔的方法,主要研究内容如下: ① 基于回音壁微环谐振腔的模场特征、波导耦合理论以及回音壁微腔的特征 参数等理论基础对PDMS 微环谐振腔进行理论分析,并利用时域有限差分法(Finite Difference Time Domain ,FDTD )分析耦合间距、微环尺寸对其谐振特性的影响, 为 PDMS 微环谐振腔的尺寸选取和特性研究提供理论指导。 ② 提出用纳米压印技术制作片上 PDMS 微环谐振腔。根据纳米压印技术的工 艺过程,设计微环尺寸并将对应的图形转移至硅片模板上,并对配置好的 PDMS 溶液进行旋涂、压印、固化和脱模等操作。结果表明通过纳米压印技术可以成功 地制作出基于 MgF2 衬底的 PDMS 微环谐振腔。 ③ 选用拉锥光纤作为耦合器件,通过透射光谱测试系统研究基于 MgF2 衬底 的PDMS 微环谐振腔的谐振特性。实验结果测得,片上 PDMS 微环谐振腔的品质 4 因子约为 10 ,并且耦合间距和微环尺寸会影响其谐振谱线。同时,对片上PDMS 微环谐振腔的温度响应特性进行实验研究,结果表明其谐振波长的变化与温度呈 线性关系,对应的温度灵敏度约为-0.29nm/ºC 。 关键词:回音壁模式;纳米压印技术;片上PDMS 微环腔;温度响应 I 英文摘要 Abstract Whispering gallery mode (WGM) resonators with ultra-high quality factor and ultra-small mode volume have potentials in sensing and detection, nonlinear optics, lasers and quantum information. Among them, on-chip WGM resonators can achieve compatibility and integration with other devices. Therefore, in order to improve the practical application of on-chip WGM resonators, it is necessary to ensure that the preparation method satisfies the requirements of mass production, high production efficiency and low cost. A new preparation scheme of polydimethylsiloxane (PDMS) optical microring resonator on MgF substrate by nano-imprint lithography is proposed

文档评论(0)

136****6583 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

版权声明书
用户编号:7043055023000005

1亿VIP精品文档

相关文档