半导体材料光催化作用地机理.pdf

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半导体光催化机理 纳米二氧化钛主要有二种晶体结构, 即:锐钛矿和金红石。 它们的结构基本 单位都是 TiO6 八面体,其结构如图 1-1 所示。二种结构的不同在于八面体的扭 曲程度和连接形式。锐钛矿结构由 TiO6 八面体通过共边组成,而金红石结构则 由共顶点且共边组成。利用纳米 TiO2 为光催化剂,在溶液或空气中发生多相光 催化降解污染物的反应过程大致包括以下几个主要步骤 [5] : 1)TiO2 在光的照射下,被能量大于或等于其禁带宽度的光子所激发,产生 - + 具有一定能量的光生电子( e )和空穴( h ); - + 2 )光生电子( e )和空穴( h )在 TiO2 颗粒的内部以及界面之间的转移或 失活; - + 3 )光生电子( e )和空穴( h )到达 TiO2 粒子表面并与其表面吸附物质或 溶剂中的物质发生相互作用, 即发生氧化还原反应, 从而产生一些具有强氧化性 的自由基团( ?OH ,O2- )和具有一定氧化能力的物质( H2O2 )。 4 )上述产生的具有强氧化性的自由基团和氧化性物质与被降解污染物充分 作用,使其氧化或降解为 CO2 与 H2 O 。 Fig. 1-1 Ti-O6 octahedron 图 1-1 钛氧八面体 sun H2 H 2 — - O2- CO 2 CB e H + O2 water hv E Organic g Compounds OH - H O 2 VB + h+ O H O 2 OH· OH· 2 Fig. 1-2 Schematic diagram of photocatalytic degradation on semiconductor [6] photocatalysts (TiO ) 2 图 1-2 半导体光催化反应原理示意图( TiO )[6] 2 以锐钛矿 TiO2 光催化材料为例,当 T

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