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第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 无因次停留时间 θ = t t t = Vr Q E (t ) dt = E (θ ) dθ E (θ ) = E (t ) dt dθ = t E (t ) F (θ ) = F (t ) 停留时间分布的实验测定 前已指出，普遍适用的停留时间分布实验测定方法是示踪响应法，通过用示踪剂来 跟踪流体在系统内的停留时间。根据示踪剂加入方式不同，可分为脉冲法、阶跃法 及周期输入法三种。这里仅讨论前两种方法以。 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 （1）脉冲法 输入函数 响应曲线 实质：极短的时间内，在系统的入口处向流进系统的流体加入一定量的示踪剂。 E (t ) = Qc(t ) m E ( t ) = 直接由响应曲线 求停留时间分布 密度函数。 c ( t ) ∞ ∫ c ( t ) dt 0 t F (t ) = ∫ E(t )dt 0 积分上式可求停留时间分布函数。 求示踪剂质量 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 图5.6.1 升阶法测定停留时间分布 主流体Q0 系 统 Q F (t ) = c(t ) c(∞) 含示踪剂的流 体中示踪剂的 浓度。 c(∞) c0(t) 含示踪剂的流 体（C(∞) ） 在整个输入阶 段均不变 输入曲线 c(∞) c(t) 检测器 响应曲线 ※ 阶跃响应曲线 直接求得到的是停 留时间分布函数， 而由脉冲响应曲线 求得的是停留时间 分布密度。 0 t=0 t 0 t 开始切换含示踪剂的流体 时间定为t=0 输入的阶跃函数为： t 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 图5.6.2 降阶法测定停留时间分布 主流体Q 系统 Q 1 ? F (t ) = c(t ) c(0) 停留时间大于 含示踪剂的流 体（C(0) ） 检测器 t的物料所占 的分数 输入曲线 c(0) c0(t) c(0) c(t) 响应曲线 0 t=0 0 Q ? c(0)? [1 ? F (t )] = Q ? c(t ) t 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 脉冲法：直接求出E(t)，应用方便。示踪剂用量少。最大的困难是如何使示踪 剂的输入时间缩到最短 阶跃法：直接求出F(t)，应用较不方便。示踪剂用量多。 停留时间分布的统计特征值 与其他统计分布一样，为了比较不同的停留时间分布，通常是比较其统计特征值。 常用的统计特征值有两个，一个是数学期望，另一个是方差。 方差表示对均值的离 散程度，方差越大， 则分布越宽 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 脉冲法 升阶法 降阶法 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 理想反应器的停留时间分布 活塞流模型 ① 活塞流模型停留时间分布的特征就是同时进入系统的流体粒子也同时离开系统， 也就是说系统出口的流体粒子具有相同的寿命。显然t=0时向活塞流反应器的进 口以δ函数的形式脉冲输入示踪剂时，则其出口中示踪剂的浓度也呈δ函数的形 式。如下图所示。 ② 响应曲线表示为E(t)曲线 活塞流模型的停留时间分布密度函数为： 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 应用无因次时间时则为： 无因次平均停留时间及方差为： 全混流模型 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 单调下降，t趋于无 穷时，E(t)趋于0 呈山峰形，或者两 头低，中间高 一般情况下的E(t) 一般情况下的F(t) 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 全混流停留时间分布的平均停留时间和方差为： 非理想流动现象 （1）滞留区的存在 滞留区是指反应器中流体流动极慢以至于几乎不流 动的区域，所以滞留区也叫死区。滞留区的存在使 得一部分流体的停留时间极长，其停留时间分布密 度函数E(t)图的特征是拖尾很长。 第五章 停留时间分布与反应器的流动模型 连续釜式反应器的流型应与全混流相接近，但当存在滞留区时其停留时间分布就会出 现如图5.12所示的情况。由全混流的停留时间分布密度E(θ)=e – θ知，当θ=0时， E(θ)=1，而当有滞留区存在时， θ=0时， E(θ)1 全混流 有滞留区 （2）存在沟流和短路 在固定床反应器、填料塔以及滴流床反应器 中，由于催化剂颗粒或填料装填不均匀，从 而造成一低阻力的通道，使得部分流体快速 地从此通道流过，而形成沟流。 设备设计不良时会产生短路现象，即流体的设备内的停留时间极短，例如，当 设备的进出口离得太近时就会出现短路。 若流动系统中产生沟流或短路