薄膜的物理气相沉积Ⅰ-热蒸发.pptVIP

第二章 薄膜的物理气相沉积（I） —— 蒸发法;特点： (1)需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉 积过程的源物质； (2)源物质要经过物理过程进入气相； (3)需要相对较低的气体压力环境； 气相分子的运动路径近似为一条直线； 气相分子在衬底上的沉积几率接近100%。 (4)在气相中及衬底表面并不发生化学反应。;基本PVD方法： 蒸发法（10-3 Pa） （真空度较高，沉积速度较高，薄膜纯度较高，薄膜与基片结合较差） 溅射法（10-2 ~ 10Pa） （多元合金薄膜化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好） 离子镀、反应蒸发沉积、离子束辅助沉积等 ;;工作原理： 在真空环境下，给待蒸发物质提供足够的热 量以获得蒸发所必需的蒸气压。在适当的温度下， 蒸发粒子在基片上凝结，即可实现真空蒸发沉积。 步骤：①蒸发源材料由凝聚相转变成气相； ②在蒸发源与基片之间蒸发粒子的输运； ③蒸发粒子到达基片后凝结、成核、长大、 成膜。;组成部分： 真空室； 蒸发源及蒸发加热装置；衬底放置及加热装置。;真空蒸发镀膜机 ;2.1.1 元素的蒸发速率;α — 系数，介于0~1之间； pe、ph — 平衡蒸气压和