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LCD工艺流程简述 一、前段工位： ITO玻璃的投入（grading ）―― 玻璃清洗与干燥（CLEANING ―― 涂光刻胶（PR COAT——前烘烤（PREBREAK曝光（DEVELOP 显影（MAIN CURE ——蚀刻（ETCHING —— 去膜（STRIP CLEAN 【属于光科技术，详见百度百科 】一一 图检（INSP）――清洗干燥（CLEAN —— TOP涂布（TOPCOAT —— UV烘烤（UVCURE —— 固化（MAIN CURE ——清洗（CLEAN —— 涂取向剂（PI PRINT）——固化（MAIN CURE ——清洗（CLEAN ——丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING —— 烘烤（CUPING^URNACE—— 喷衬垫料（SPACESPRAY —— 对位压合（ASSEMBLY—— 固化（SEAL MAIN CURING 讲解： ITO图形的蚀刻：（ITO玻璃的投入到图检完成） ITO玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的 ITO玻璃装入 传递篮具中，要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求， 切记ITO层 面一定要向上插入篮具中。 玻璃的清洗与干燥： 将用清洗剂以及去离子水（DI水）等洗净 ITO玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO表面的杂质和油污洗净， 然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。 光刻技术（1.气相成底模2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5?曝光后烘焙（PEB 6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查） 涂光刻胶： 在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶， 涂 过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理 ： 前烘：在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使 光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。 曝光：用紫外光（UV通过预先制作好的电极图形掩模版照射光 刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光 刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示） 光致抗蚀剂3舌片（硅片） 光致抗蚀剂 3舌片（硅片） 紫外灯掩模谨）t（匕接近式为例】-检竇 紫外灯 掩模 谨）t （匕接近式为例】 -检竇 坚膜 槌形液療洗液 / z . \、 显影 （以正胶为例》 图2光复印工艺圭要浹程 显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层 除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV光照射部 分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚 膜处理 坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。 刻蚀：用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO膜蚀掉，这样 就得到了所需要的ITO电极图形， 注：ITO玻璃为（In203与SnO2的导电玻璃，此易与酸发生反 应，而用于蚀刻掉多余的IT0,从而得到相应的拉线电极。 I .去膜：用高浓度的碱液（NaOH溶液）作脱膜液，将玻璃上余 下的光刻胶剥离掉，从而使 ITO 玻璃上形成与光刻掩模版完全一 致的 ITO 图形。（即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成， 如 图） J. 清洗干燥：用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其 它的杂质。 二、 特殊制程： （TOP 膜的涂布到固化后清洗） 一般的 TN 与 STN 产品不要求此步骤， TOP 膜的涂布工艺是在光 刻工艺之后再做一次 SiO2 的涂布，以此把刻蚀区与非刻蚀区之间 的沟槽填平并把电极覆盖住，这既可以起到绝缘层的作用，又能 有效地消除非显示状态下的电极底影，还有助于改善视角特性等 等，因此大部分的高档次产品要求有 TOP涂布。 三、 取向涂布（涂取向剂到清洗完成） 此步工艺为在蚀刻完成的 ITO 玻璃表面涂覆取向层，并用特定的 方法对限向层进行处理，以使液晶分子能够在取向层表面沿特定 的方向取向（排列） ，此步骤是液晶显示器生产的特有技术。 A. 涂取向剂：将有机高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采 用选择涂覆的方法，在 ITO 玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向 层，同时对取向层做固化处理。 （一般在显示区） B. 固化： 通过高温处理使取向层固化 C． 取向摩擦：用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，以 使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列。 如 TN 型号摩擦 取向： 45 度 D． 清洗： 取向摩擦后的玻璃上会留下绒布线等污染物，需要采 取特殊的清洗步骤来消除污染物。 四、空盒制作：（丝网印刷到固化） 此步工艺是把两片导电玻璃对叠， 利用封接材料贴合起来并固化， 制成间隙为特定厚度的玻璃盒。 制盒技术是制造液晶显示器的最 为关键的技术之一。（必须严格控制液晶盒的间距） A． 丝印边框及银点：将封接材料（封框胶）用丝网印刷的方法 分别对上板印上边框胶和和下板玻璃印是导电胶。 B． 喷衬垫料： 在下玻璃上均匀分布支撑材料。将一定尺寸