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- 2020-11-12 发布于江苏
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QSG3 透明石英玻璃坩埚
本标准适用于半导体工业拉制单晶用的高纯透明石英玻璃坩埚。
本坩埚采用天然石英熔制成坯体,并在其内表面涂一层高纯人造石英玻璃层。
一、技术要求
1.物理、化学性能指标
(1)化学成分
a.内涂层化学成分
铝、钙、镁、钛、铜、铁、钻,镍、锰、硼、钾、钠、理十三个杂质元素的总含
量不得大于 0.001%。
其中:铝≤5×l0[-4]%; 铜≤0.l×l0[-4]%;
铁≤0.5×l0[-4]%; 硼≤0.1×l0[-4]%;
钾≤1×l0[-4]%; 钠≤1×10[-4]%。
b.坩埚坯体化学成分
铝、钙、镁、钛、铜、铁、钴、镍、锰、硼、钾、钠、锂十三个杂质元素的总含
量不得大于 0.01%。
其中:铝≤60×10[-4]%; 铜≤0.1×l0[-4]%;
铁≤5×l0[-4]%; 硼≤0.3×l0[-4]%;
钾≤4×l0[-4]%; 钠≤4×l0[-4]%。
(2)热稳定性
试样在 1100℃至 20℃温度急变下试验三次,不产生裂纹。
(3)抗结晶性
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试样在 1200℃温度下恒温半小时,不允许出现直径大于 3 毫米的析晶白点,0.5~
3 毫米的析晶白点,每 100 平方厘米不得超过 10 个。
(4)涂层厚度应均匀,折合重量应符合表 1 规定。
表1
外径D 涂层重量 外径 D 涂层重量
毫米 克 毫米 克
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