实验讲义-半导体材料吸收光谱测试分析2015.pdfVIP

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  • 2020-11-29 发布于江苏
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实验讲义-半导体材料吸收光谱测试分析2015.pdf

半导体材料吸收光谱测试分析 一、实验目的 1.掌握半导体材料的能带结构与特点、半导体材料禁带宽度的测量原理与方法。 2.掌握紫外可见分光光度计的构造、使用方法和光吸收定律。 二、实验仪器及材料 紫外可见分光光度计及其消耗品如氘灯、钨灯,玻璃基 ZnO 薄膜。 三、实验原理 1.紫外可见分光光度计的构造、光吸收定律 (1)仪器构造:光源、单色器、吸收池、检测器、显示记录系统。 a .光源:钨灯或卤钨灯——可见光源,350~1000nm ;氢灯或氘灯——紫外光源, 200~360nm 。 b .单色器:包括狭缝、准直镜、色散元件 色散元件:棱镜——对不同波长的光折射率不同分出光波长不等距; 光栅——衍射和干涉分出光波长等距。 c .吸收池:玻璃—— 能吸收 UV 光,仅适用于可见光区;石英——不能吸收紫外光,适 用于紫外和可见光区。 要求:匹配性(对光的吸收和反射应一致) d .检测器:将光信号转变为电信号的装置。如:光电池、光电管(红敏和蓝敏)、光电 倍增管、二极管阵列检测器。 紫外可见分光光度计的工作流程如下:

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