半导体制程RCA清洗技术概述.pptx

半导体制程RCA清洗技术概述;;清洗工艺介绍; 1. 化学清洗是什么;; 2. 晶圆清洗的重要性; 3. 晶圆清洗的研究内容; 4. 晶圆清洗中的化学原料及作用; 4. 晶圆清洗中的化学原料及作用; 5. 晶圆清洗的RCA工艺;;;RCA工艺 ——— 微粒去除机制;;改进的RCA 清洗 水中超声清洗：灰尘、残余物去除 浓硫酸、浓硫酸+双氧水：表面污染（有机物、重金属、微粒） BHF去除氧化层 （to 疏水性） 碱洗（双氧水、氨水、水）：颗粒、有机物去除 BHF去除氧化层 （to 疏水性） 酸洗（双氧水、盐???、水）：微粒、金属去除 BHF去除氧化层 （to 疏水性） 超纯水淋洗：去除离子;练习;;RCA工艺 ——— 制程设备及供应商;RCA工艺 ——— 工作机台介绍;RCA工艺 ——— 工作机台介绍;RCA工艺 ——— 工作机台介绍;RCA工艺 ——— 工作机台介绍;;;;第一部分小结：;清洗现场操作过程;;;;;1. 感性认识 —— 常规化学清洗台的操作;1. 感性认识 —— 常规化学清洗台的操作;1. 感性认识 —— 常规化学清洗台的操作;1. 感性认识 —— 常规化学清洗台的操作;1. 感性认识 —— 常规化学清洗台的操作;1.