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- 2020-12-06 发布于四川
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2016年8月12日
Wet Etch设备及工艺介绍
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1. Wet Etch业务介绍-主工艺
Exposure
Photo Mask
Strip
Develop
Etch(DE/WE)
镀膜(Sputter/PECVD)
Initial Clean
ATAR
UV Light
Glass
Thin Film
Photo Resist
(PR)
Next Layer
Wet Strip
Etch(DE/WE)
Initial Clean
Array工艺流程图
1. Wet Etch业务介绍-担当设备
Wet Etch
Wet Etcher
EMS
Wet Stripper
RMS
Initial Cleaner
CST Cleaner
Robot
Cassette
AP Plasma
1. Wet Etch业务介绍-岗位职责
设备
工艺
We are:设备与工艺工程师
稳定运行确保
(日常PM、运营监控、Part管理等)
工艺优化
(不良改善、工艺改进、成本降低等)
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Wet
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