半导体FAB里基本的常识简介.pdf

CVD  CVD  晶圆制造厂非常昂贵的原因之一，是需要一个无尘室，为何需要无尘室 晶圆制造厂非常昂贵的原因之一，是需要一个无尘室，为何需要无尘室 答：由于微小的粒子就能引起电子组件与电路的缺陷 答：由于微小的粒子就能引起电子组件与电路的缺陷 何谓半导体 何谓半导体?  ?  答：半导体材料的电传特性介于良导体如金属 铜、铝，以及钨等 和绝缘和橡胶、塑料 答：半导体材料的电传特性介于良导体如金属 铜、铝，以及钨等 和绝缘和橡胶、塑料 (( )) 与干木头之间。最常用的半导体材料是硅及锗。半导体最重要的性质之一就是能够藉由一种 与干木头之间。最常用的半导体材料是硅及锗。半导体最重要的性质之一就是能够藉由一种 叫做掺杂的步骤刻意加入某种杂质并应用电场来控制其之导电性。 叫做掺杂的步骤刻意加入某种杂质并应用电场来控制其之导电性。 常用的半导体材料为何 常用的半导体材料为何 答：硅 、锗 和砷化家 答：硅(Si)、锗(Ge)和砷化家(AsGa)  (Si) (Ge) (AsGa)  何谓 何谓 VLSI  VLSI  答： 超大规模集成电路 答： 超大规模集成电路 VLSI(Very Large Scale Integration) VLSI(Very Large Scale Integration) 在半导体工业中，作为绝缘层材料通常称什幺 在半导体工业中，作为绝缘层材料通常称什幺 答：介电质 答：介电质(Dielectric)  (Dielectric)  薄膜区机台主要的功能为何 薄膜区机台主要的功能为何 答：沉积介电质层及金属层 答：沉积介电质层及金属层 何谓 何谓 CVD(Chemical Vapor Dep.)  CVD(Chemical Vapor Dep.)  答： 是一种利用气态的化学源材料在晶圆表面产生化学沉积的制程 答：CVD是一种利用气态的化学源材料在晶圆表面产生化学沉积的制程 CVD 分那几种 CVD分那几种?  CVD ?  答： 电浆增强型 及 热耦式 答： 电浆增强型 及 热耦式 PE-CVD( ) Thermal-CVD( )  PE-CVD( ) Thermal-CVD( )  为什幺要用铝铜 合金作导线 为什幺要用铝铜(AlCu)合金作导线?  (AlCu) ?  答：良好的导体仅次于铜 答：良好的导体仅次于铜 介电材料的作用为何 介电材料的作用为何?  ?  答：做为金属层之间的隔离 答：做为金属层之间的隔离 何谓 何谓 PMD(Pre-Metal Dielectric)  PMD(Pre-Metal Dielectric)  答：称为金属沉积前的介电质层，其界于多晶硅与第一个金属层的介电质 答：称为金属沉积前的介电质层，其界于多晶硅与第一个金属层的介电质 何谓 何谓 IMD(Inter-Metal Dielectric)  IMD(Inter-Metal Dielectric)  答：金属层间介电质层。 答：金属层间介电质层。 何谓 何谓 USG?  USG?  答：未掺杂的硅玻璃 答：未掺杂的硅玻璃(Undope