数字平板板探测器培训.pptVIP

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  • 2020-12-23 发布于福建
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蓝的 See life more clearly 数字平板探测器 LAnDWIND 概述 非晶硅平板探测器介绍 非晶硅平板探测器厂家及类型 a概述 LAnDWIND 在平板DR数字化摄影中,X线能量转换成电信号是通过平板探测器 Flat panel Detector)来实现的所以平板探测器的特性会对DR图像质 量产生比较大的影响。 选择DR必然考虑到平板探测器的选择,平版探测器的性能指标会对图像 产生很大的影响 目前市场上存在的平板探测器主要有两种 非晶硒平板探测器和非晶硅平板探测器,从能量转换的方式来看,前者 属于直接转换平板探测器,后者属于间接转换平板探测器 概述 LAnDWIND 非晶硒平板探测器主要由非晶硒TFT构成。入射的X射线 使硒层产生电子空穴对,在外加偏压电场作用下,电子和 空穴对向相反的方向移动形成电流,电流在薄膜晶体管中 形成储存电荷量对应于入射X射线的剂量,通过读出电路 可以知道每一点的电荷量,进而知道每点的X射线剂量 由于非晶硒不产生可见光,没有散射线的影响,因此可以 获得比较高的空间分辨率。 X千 Charge 5概述 LAnDWIND 非晶硅平板探测器主要由碘化铯等闪烁涂层与薄膜晶体管(TFT) 构成。它的工作过程一般分为两步,首先闪烁晶体涂层将X射线能量 转换成可见光,其次TFT将可见光转换成电信号,由于在这个过程中 可见光会发生散射,对空间分辨率产生一定的影响,虽然新工艺中将 闪烁体加工成柱状以提高对X线的利用及降低散射,但散射光对空间 分辨率的影响不能完全消除。 Xrays CsI Silicon Photo-diode Charg amplifier 6概述 LAnDWIND 影响非晶硅平板探测器的图像质量的因素 影响非晶硅平板探测器DQE的因素主要有两个方面:闪烁体的涂层和晶体管。 首先闪烁体涂层的材料和工艺影响了X线转换成可见光的能力,因此对DQE 会产生影响,目前常见的闪烁体涂层材料有两种:碘化铯和硫氧化钆。碘化铯 对X线的转换效率要高于硫氧化钆,但是碘化铯的成本比较高,将碘化铯加工成 柱状结构,可以进一步提高捕获X线的能力,并减少散射光。使用硫氧化钆做 涂层的探测器成像速度快,性能稳定,成本较低,但是转换效率不如碘化铯。 其次将闪烁体产生的可见光转换成电信号的方式也会对DQE产生影响,薄膜 晶体管FTF的设计及工艺也会影响探测器的DQE。 影响非晶硅平板探测器空间分辨率的因素:由于可见光的产生,存在散射现象 空间分辨率不仅仅取决于对散射光的控制技术。总的来说,间接转换平板探 测器的空间分辨率不如直接转换型平板探测器高。 闪烁体层 晶阵列 列驱动板 集成电路读出板 7概述 LAnDWIND 影响非晶硒平板探测器的图像质量的因素 X线转换成电信号完全依赖于非晶硒层产生的电子空穴对,DQE的高低取决于 非晶硒产生的电荷能力。 由于没有可见光的产生,不发生散射,空间分辨率取决于单位面积内薄膜晶体 管矩阵大小,矩阵越大薄膜晶体管的个数越多,空间分辨率越高,随着工艺的 提高可以做到很高的空间分辨率 l sELEn Imac pRocessInG DIRECT ENERGY CONVERSION 概述 LAnDWIND 量子检测效率DQE与空间分辨率的关系 对于同一种平板探测器,在不同的空间分辨率时,其DQE是变化的,极限的 DQE高,不等于在任何空间分辨率时DQE都高,DQE的计算公式如下 DQE=S2*MFT2/NSP*X*C s:信号平均强度,MFT是调制传递函数,X是X线曝光强度,NPS是系统噪声 功率谱,C是X线量子系数。 从公式可以看出在不同的MTF值中对应不同的DQE,也就是说在不同的空间分 辨率时有不同的DQE 概述 LAnDWIND 非晶硅平板探测器的极限DQE比较高,但是随着空间分辨率的提高,其DQE 下降得较多,而非晶硒平板探测器的极限DQE不如非晶硅平板探测器高,但是 随着空间分辨率的提高,其DQE反而超过了非晶硅平板探测器 这种特性说明非晶硅平板探测器在区分组织密度差异的能力较强,而非晶硒 平板探测器在区分细微结构差异的能力较高。 DQE e 2u Gy RQA5 equency (cycle mmh 非晶硅平板探测器DQE曲线 非晶硒平板探测器DQE曲线 概述 LAnDWIND 由于DQE影响图像的对比度,空间分辨率影响图像对细节的分辨能力,在临床 应用中用应根据不同的检查部位来选择不同类型的平板探测器,对于像胸部这 样的检查,重点在于观察和区分不同组织的

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