太阳能电池生产工艺及厂房总结.docxVIP

太阳能电池生产工艺 扩散前清洗的目的在于制绒，就是把相对光滑的原材料硅片的表面通过强酸和强 碱腐蚀，使其凸凹不平，变得粗糙，形成漫反射，减少直射到硅片表面的太阳能 的损失。相关设备有德国RENA这些设备中最好的是RENA因为他不光卖设备, 还卖制绒工艺的专利。所使用的介质 、工艺简介 太阳能电池生产工艺一般分为：扩散前清洗、扩散、扩散后清洗、刻蚀、PECVD 丝网印刷，烧结，分类检测和封装。 扩散前清洗的目的在于制绒，就是把相对光滑的原材料硅片的表面通过强酸 和强碱腐蚀，使其凸凹不平，变得粗糙，形成漫反射，减少直射到硅片表面的太 阳能的损失。相关设备有德国 RENA这些设备中最好的是REN A因为他不光卖设 备，还卖制绒工艺的专利。所使用的介质有 HF, HCL HN03 NaOH Na2SiO3和 乙醇等。动力源有自来水，纯水，压缩空气，氮气，工艺冷却水，废水，热排风 和酸排风。 扩散的目的在于形成PN结。硅片含硼，是P型结物质，需要往里面掺杂磷， 使电子发生移动，形成PN结空穴。所使用的介质有 POCL3 N2, 02动力源有 压缩空气，氮气，工艺冷却水，热排风和有机排风。使用的设备是高温扩散炉， 厂商有SVCS TEMPRESS长沙48所等。该道工艺有洁净要求，需要在洁净室内 运行。因为扩散炉内的石英管需要清洗，所以需要增加一种石英管清洗机。 扩散后清洗的目的在于洗去扩散时形成的磷硅玻璃，即 Si02和P2O5的混 合物，所以扩散后清洗机又叫做去磷硅玻璃清洗机。动力源有氮气，压缩空气， 纯水.HF，热排风，酸排风，废水等。 刻蚀的目的在于把硅片的边缘 PN结断开，防止短路。目前国内所使用的设 备几乎都是长沙48所的。动力源有CF4, N2, NH3热排风，有机排风。 PECVD的目的在于镀氮化硅薄膜，增加折射率，同时掺杂 H元素，使缺陷减 少，还可以保护硅片。所用设备有德国的 ROTHRA平板式PECVDS备，还有 CENTROTHERM管式 PECV设备。动力源有 SiH4, NH3氮气，压缩空气，工艺 冷却水，热排风，硅烷排风等。 丝网印刷的目的在于印刷导电电极。 先印背面，再印正面。目前国内大多数 厂家使用设备是意大利的BACCINI印刷线。动力源有真空，压缩空气，热排风， 有机排风等。 烧结的目的是把电极烧结在PN结上。高温烧结可以使电极穿透氮化硅膜，形成合金。所用设备有美国DESPAC等。动力源有压缩空气，工艺冷却水，热排 风，有机排风等。 分类检测的目的在于把电池片按照效率进行分类。 目前国内大多数厂家使用 设备是意大利的 BACCINI 检测仪。动力源有真空，压缩空气。 最后一道工艺就是热塑包装。 二、厂房建设经验总结 一条年产量25MW勺生产线，设备占地至少需要1100平方米，而国内厂商一 般很少有只计划一条线的公司，所以太阳能电池生产车间净面积都在 2000平方 米以上。按照 16 小时甚至 24小时生产来计算， 工艺人员不下于百人， 所以相应 勺办公室， 更衣间， 食堂， 宿舍，卫生间等设施都不能太小。 外线动力站 （制冷， 供热，纯水，空压，真空，空调，工艺冷却水，消防，变配电，自控，通讯等） 房总面积不小于 2000平方米。厂房和动力站房有钢筋混凝土框架结构，多层建 筑勺，也有钢结构加金属复合板单层建筑勺， 但布置工艺和动力设备勺楼层， 因 管线众多，层高都较大，至少是 7 米。 以下经验总结均以50MW生产线为例。 电源是整个工厂勺首要条件，仅工艺和动力设备用电功率就在 1800KW 左右，必须有可靠的电能供应。PECV设备，制冷机，空压机，空调风机和循环 水泵是用电功率较大勺设备。 工艺纯水的用量在 15吨/小时左右，水质标准都要达到中国电子级水的技术 指标GB/T11446.1-1997中EW-1级。工艺冷却水用量也在15吨/小时左右，水质 中微粒粒径不宜大于10微米，供水温度宜在15-20C，供水压力5巴左右，应 有可靠的温度，供水压力控制，最好采用变频泵。压缩空气用量在 400NM3/H左 右，如果空气品质要求较高， 如需要达到压缩空气质量等级的 1 级甚至更高要求， 建议使用无油空压机。 如果露点温度要求苛刻， 干燥机建议使用组合式。 真空排 气量在 300M3/H 左右，水环式真空泵虽然便宜，但是效率下降的也快，不推荐 使用。氮气和氧气如果靠近大的气体供应站， 一般采用液体储罐供应的方式， 初 投资低， 氮气储罐 20 立方米左右， 氧气 10 立方米足够。特殊气体如硅烷等， 考 虑安全因素，单独设置一个特气间还是很有必要的。 空调系统的空气处理方式则视具体土建情况而言， 可以采取组合式空气处理 机组集中处理， 也可以采用干盘管进行分散处理。 生产车间出扩散区外， 温湿度 均只要满