《工化基础》答案.docxVIP

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工化基础答案 绪论 1?两相(不计空气);食盐溶解,冰熔化,为一相;出现 AgClv,二相;液相分层,共三相。 2?两种聚集状态,五个相 :Fe( s) ,FeO( s) ,Fe2O3( s), Fe3O4( s), H2O (g)和 H2( g) (同属一个相)。 1.0 mol。 m(CaO) =532.38kg, m(CO2)=417.72kg。 4 mol。 消耗掉 1 molH2,生成 1 molH 2Q 第一章 第一节 见教材8页。 化学式见教材10页;均属于碳链高分子化合物。 尼龙66:化学式见教材 9页,属杂链高分子化合物。 聚二甲基硅氧烷:化学式见教材 10页,属元素有机高分子化合物。 AAS :化学式参考教材10页ABS ,属碳链高分子化合物。 ,聚合度是n ,聚合度是n。 和諾-,两 个链节组成一个重复单元,聚酰胺的聚合度是 2n。 5.配合物化学式 名 称 中心体 配位体 配位原子 配位数 K[Pt(NH 3)Cl 3] 三氯一氨合铂(n )酸钾 Pt( n) NH3,Cl N,Cl 4 Na2[Zn(OH) 4] 四羟合锌(n)酸钠 Zn( n) —OH O 4 [Ni(en) 3]SO4 硫酸三乙二胺合镍(n ) Ni( n) en N 6 [Co(NH 3)5CI]CI 2二氯化一氯五氨合钴(川)Co(川) NH3,C「N,Cl 6 Na[CaY] 乙二胺四乙酸合钙(n)酸钠 Ca( n) 4- Y O,N 6 6.见教材13~17页。 第二节 MgOCaOCaF2CaCl2,理由略。 提示:钠卤化物是离子晶体 ,而所列硅卤化物均为分子晶体。 SiCSiBr4SiF4,理由略。 (1)熔点由高到低为:BaCl2FeCl2AICI 3CCl4 因为BaCl2为典型的离子晶体,熔点较高;FeCl2和AICI 3同为过渡型晶体’FeC与FeCb 比较,FeCl2为低价态,而 Al3+与Fe3+比极化力更大,能使AlCl 3比FeCI?更偏向于分子晶体, 即熔点更低;CCI4则为典型的分子晶体,熔点更低。 硬度从大到小:SiO2BaOCO2,理由略。 5?见教材22页。 见教材23页。 第三节 饱和性,方向性,锯齿,降低 ,氢,氧。 m , 1千克溶剂。 见教材38~39页。 8;润湿剂;16-18 ;洗涤剂、增溶剂 。 (1) PH大小:10 C时20 C时50 C时,理由略。 电导率:10 C时20 C时50 C时,理由略。 凝固点:0.1mol kg 0.2mol kg 0.5mol kg ,理由略。 ⑷凝固点:C6H12O6的NaCI的Na2SO4的,理由略。 TOC \o 1-5 \h \z _ 1 _ 1 _ 1 (5)渗透压.0.1mol kg 0.2mol kg 0.5mol kg ,理由略。 第四节 (a) (a) 小于 5.6 ; CO2、 SO3 ; H2CO3、H2SO4。 温室气体CO2、CH4、O3、N2O和CFC等,引起臭氧层破坏的有 N2O、CFC等气体。 p(O2)=100kPaX 0.21=21Pa, p(N2)=100kPaX 0.78=78 kPa , p(NO2)=100kPax 0.01=1.0 kPa; p= 2 p0=50 kPa 。 6.42.80 ; 78.73:。 第二章 第一节 (b)正确;(a)错在完全自由”,它受力束缚;(c)错在有一定轨迹”。 位置,能量。 n ; 0、1、2、3 四;4f ; 7。 4. 组态 1p 2s 2d 3p 5f 6s 是否存在 N Y N Y Y Y 主量子数 / 2 / 3 5 6 角量子数 / 0 / 1 3 0 轨函(个数) / 1 / 3 7 1 最多可容纳电子数 / 2 / 6 14 2 第二节 1. —\ 丿元素 外层电子排布式 未成对电子数 离子 外层电子排布式 未成对电子数 22Ti 3d24s2 2 Ti4+ 小 2小~6~ 3s 3p 0 24Cr 小.5 ,—1 ~ 3d 4s 6 Cr3+ 小 2^~6^ .3~ 3s 3p 3d 3 28Ni c .8 , 2~ 3d 4s 2 Ni2 c 2c~6c .8~ 3s 3p 3d 2 29Cu c .10“ 1 3d 4s 1 —2+ Cu ~2 6 9~ 3s 3p 3d 1 2.20 , 4.15, 6.10; Na、Si、Cl作用在外层电子上的有效核电荷数依次增大,原子半径依 次减小,金属性依次增强。 1 2.2,3.7; K和Cu最外层均有4s ,但K的4s电子所受的有效核电荷数 (2.2)比Cu的4s电 子所受的有效核电荷数(3.7)小,而且半径亦大,因此在化学反应中 K比Cu易失去电子,金属性 强。 Ca、Ti、Mn、Fe、C

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