- 1、本文档共31页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
;Overview Presentation Hipims+ by Hauzer;Plasma technology with high % of the material to be deposited is ionized. Gaining control over stress - Control microstructure/texture
To create defect free coatings with good adhesion.
To make coatings for tool and tribo applications which outperform arc deposited coatings
To reduce thermal load of substrate
To increase deposition rate of sputtering process
;Capacitor discharge
Peak pulse powers from kW to MW
Low frequency (duty cycle)
Pulse energy and voltage can be defined
Pulse shape is determined by system configuration
Cabling
Pressure
Sputtering atmosphere
Magnetron design
;HIPIMS Plasma composition in ArN2;HIPIMS TiAlN Experiment;2D1H95
HIPIMS -95V bias;Results - Roughness;Ion energy ;Results – Hardness and E modulus;Results – Scratch test;
;Modulated Pulse Power - MPP?
High power pulse magnetron sputtering technique
Heart of technology is Multi-step DC pulse
Voltage rise time control is key to enabling a long, stable, and high power pulse discharge
Pulses widths of 200 μsec up to 1.5 msec
HIPIMS+ by Hauzer provides:
Control of the gas to metal ion ratio
Increased deposition rate (higher than HIPIMS)
Improved target utilization
Smooth, very good adhering hard coatings for tool and tribo applications.;HIPIMS vs. HIPIMS+;;Hipims+ Pulse ;Hipims+ Pulsing possibilities;Provide an additional constant voltage power supply, which can supply the required peak current at the required constant voltage. (Arc handling)
Simple Solution: use capacitor as additional CV-power supply.
Hauzer Patent: electronic switching for a fast interruption of the arc current, capable to handle the current of the capacitor discharge circuit.
;Hipims+;Ti+ ion etching (arc) + DC sputter
Ti+ ion etching (arc) + Arc
Ti+ ion etching (arc) + HIPIMS+
Ar+ etching + HIPIMS+
;HIPIMS+ Scratch summary;TiAlN ;TiAlN HIPIMS+ conclusions;HIPIMS+ Cr2N;HIPIMS+ Cr2N Microstructure;Hardness vs Peak Power Density;Cr2N Comparison of Hipims+ and closed field UBM spu
您可能关注的文档
- gis第四章地理信息系统空间数据库.ppt
- gmdss 第1章 地面系统通信业务.ppt
- gps智能终端设备研制.doc
- gpon class b+与class c+光模块的区别.doc
- gps测量与数据处理 复习题.doc
- gps系统(globalpositioningsystem)是目前世界上最先进....doc
- gps车在终端标准配置、功能及价格表.doc
- graphpad prism 5 作图操作步骤.ppt
- gsm光纤传输直放站说明书.pdf
- gsm培训(2)_爱立信_切换.ppt
- 2023年07月贵州六盘水市钟山区百日千万公开招聘专项行动专场公开招聘会岗位信息表笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月福建海峡人力资源股份有限公司宁德分公司公开招聘2人笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月重庆大渡口区八桥镇公开招聘1人笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月福建龙岩市社会劳动保险管理中心招募就业见习人员3人笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月福建宁德东侨统计站公开招聘劳务派遣10人笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月贵州安顺市黄果树旅游区事业单位公开招聘3人考察(第一批次)笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月福建厦门市湖里保安集团有限公司公开招聘经普办工作人员笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月福建厦门同安区发布第一批高校毕业生公开招聘岗位需求笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月辽宁朝阳市直卫健系统招考聘用19人笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
- 2023年07月福建福州市鼓楼区文化体育和旅游局公开招聘1人笔试上岸试题历年高频考点难、易错点摘选附带答案详解.docx
文档评论(0)