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§17-1 新一代集成工艺仿真系统 Sentaurus Process 随着集成电路制造工艺技术的迅速发展和日趋成熟，集成电路的集成度迅速攀升，制造流程及工艺步骤也日趋复杂。当前，硅集成电路制造工艺技术已经达到了纳米级水平，纳米电子学不断深入发展的前提是基于能够达到纳米精度的制造技术【1】。反过来，纳米级器件的设计与研发则必须有相应的高精度工艺级仿真软件来支持。 通常，对于大尺寸器件（通常特指分立器件），由诸多工艺因素造成的层间界面应力、杂质分布蠕动、空间量子效应及载流子非线性输运等小尺寸效应[2]均可被忽略。而对于小尺寸（泛指超大规模集成电路中的集成化器件）器件，准确地预期及评价工艺制程后的良品率、实现其所谓的工艺级可制造性设计，则必须充分地考虑小尺寸效应。新一代集成工艺设计工具 Sentaurus Process 恰恰解决了纳米尺度的可制造性设计技术难题，成为当前最为先进的集成电路工艺级仿真工具。 §17-1-1 Sentaurus Process 工艺级仿真工具简介[3] Sentaurus Process 是 Synopsys Inc.最新推出的新一代 TCAD 工艺级仿真工具，被业界誉为第五代集成电路制程级仿真软件，是当前最为先进的纳米级集成工艺仿真工具。 Sentaurus Process 是迄今为止集成电路制程级仿真软体中最为全面、最为灵活的多维（一维、二维、三维）工艺级仿真工具。Sentaurus Process 面向当代纳米级集成电路工艺制程，全面支持小尺寸效应的仿真与模拟，用于实现甚大规模（ULSI）集成电路的工艺级虚拟设计，可显著地缩短集成电路制造工艺级设计、工艺级优化乃至晶圆芯片级产品的开发周期。 Sentaurus Process 整合了 Avanti 的 TSUPREM 系列工艺级仿真工具、Taurus Process 系列工艺级仿真工具及 ISE 的 Dios 系列工艺级仿真工具，将一维、两维和三 维仿真集成于同一平台，在保留传统工艺级仿真工具卡命令行运行模式的基础上，又作了诸多重大改进：1.增加、设置了模型参数数据库浏览器（PDB），为用户提供修改模型参数及增加模型的方便途径；2. 增加、设置了一维模拟结果输出工具（Inspect）和二维、三维模拟结果输出工具（Tecplot SV）。Inspect 提供了一维模拟结果的交互调阅。而 Tecplot SV 则实现了仿真曲线、曲面及三维等输出结果的可视化输出。此外，Sentaurus Process 还收入了诸多近代小尺寸模型。这些当代的小尺寸模型主要有：高精度刻蚀模型及高精度淀积模型；基于 Crystal-TRIM 的蒙特卡罗 Monte Carlo）离子注入模型、离子注入校准模型、注入解析模型和注入损伤模型；高精度小尺寸扩散迁移模型等等。引入这些小尺寸模型，增强了仿真工具对新材料、新结构及小尺寸效应的仿真能力，适应了未来半导体工艺技术发展的需求。 以下，我们就如何使用 Sentaurus Process 集成电路制造工艺仿真系统、 396 Sentaurus Process 的人机交互方式和创建、编撰工艺制程仿真卡文件的语法规则，以 Sentaurus Process 工艺仿真系统所设置的文件类型等诸多方面，以教科书的方式详尽地向读者介绍当代最为先进的第五代集成工艺仿真系统 Sentaurus Process。经新思科技（Synopsys Inc.）授权，首次在中国大陆地区发表 Sentaurus Process 的技术内容。 1 Sentaurus Process 的安装及启动 Sentaurus Process 为国际化的大型工程化计算机仿真系统，有 Unix 版本及 Linux 版本供用户选用。对于中国内地用户，Sentaurus Process 的用户许可授权及安装均由 Synopsys Inc.中国分支机构（北京新思科技、上海新思科技等）提供优质的技术支持和服务。 Sentaurus Process 仿真系统设置有两种启动方式。一种是交互启动及运行模式；另一种是批处理启动及运行模式。 根据用户的使用需要，若要在交互模式下启动 Sentaurus Process，可以在已安装有 Sentaurus Process 并启动了该系统的 license（软件使用许可程序）的 PC 计算机（若使用的是 Sentaurus Process 的 Linux 版本）或计算机工作站（若使用的是 Sentaurus Process 的 Unix 版本）命令行提示符下输入以下命令： sprocess 输入上述命令后即可回车执行。Sentaurus Process 将会显示出用户当前所使用的 Sentaurus Process 的系统版本及运行该系统的