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电阻选型:厚膜、薄膜电阻特性优缺点比较
薄膜电阻由陶瓷基片上厚度为 50 ? 至 250 ? 的金属沉积层组成 (采用真空或溅
射工艺)。薄膜电阻单位面积阻值高于线绕电阻或 Bulk Metal? 金属箔电阻,而且更为便
宜。在需要高阻值而精度要求为中等水平时,薄膜电阻更为经济并节省空间。
它们具有最佳温度敏感沉积层厚度,但最佳薄膜厚度产生的电阻值严重限制了可能
的电阻值范围。因此,采用各种沉积层厚度可以实现不同的电阻值范围。薄膜电阻的稳定
性受温度上升的影响。薄膜电阻稳定性的老化过程因实现不同电阻值所需的薄膜厚度而不
同,因此在整个电阻范围内是可变的。这种化学 / 机械老化还包括电阻合金的高温氧化。此
外,改变最佳薄膜厚度还会严重影响 TCR。由于较薄的沉积层更容易氧化,因此高阻值薄
膜电阻退化率非常高。
由于金属量少,薄膜电阻在潮湿的条件下极易自蚀。浸入封装过程中,水蒸汽会
带入杂质,产生的化学腐蚀会在低压直流应用几小时内造成薄膜电阻开路。改变最佳薄膜
厚度会严重影响 TCR。由于较薄的沉积层更容易氧化,因此高阻值薄膜电阻退化率非常
高。
如前所述,受尺寸、体积和重量的影响,线绕电阻不可能采用晶片型。尽管精度低于
线绕电阻,但由于具有更高的电阻密度 (高阻值 / 小尺寸) 且成本更低,厚膜电阻得到广
泛使用。与薄膜电阻和金属箔电阻一样,厚膜电阻频响速度快,但在目前使用的电阻技术
中,其噪声最高。虽然精度低于其他技术,但我们之所以在此讨论厚膜电阻技术,是由于
其广泛应用于几乎每一种电路,包括高精密电路中精度要求不高的部分。
厚膜电阻依靠玻璃基体中粒子间的接触形成电阻。这些触点构成完整电阻,但工
作中的热应变会中断接触。由于大部分情况下并联,厚膜电阻不会开路,但阻值会随着时
间和温度持续增加。因此,与其他电阻技术相比,厚膜电阻稳定性差 (时间、温度和功
率)。
由于结构中成串的电荷运动,粒状结构还会使厚膜电阻产生很高的噪声。给定尺
寸下,电阻值越高,金属成份越少,噪声越高,稳定性越差。厚膜电阻结构中的玻璃成分
在电阻加工过程中形成玻璃相保护层,因此厚膜电阻的抗湿性高于薄膜电阻。
金属箔电阻
将具有已知和可控特性的特种金属箔片敷在特殊陶瓷基片上,形成热机平衡力对
于电阻成型是十分重要的。然后,采用超精密工艺光刻电阻电路。这种工艺将低 、长期稳
定性、无感抗、无感应、低电容、快速热稳定性和低噪声等重要特性结合在一种电阻技术
中。
这些功能有助于提高系统稳定性和可靠性,精度、稳定性和速度之间不必相互妥
协。为获得精确电阻值,大金属箔晶片电阻可通过有选择地消除内在“短板”进行修整。
当需要按已知增量加大电阻时,可以切割标记的区域 (图 2),逐步少量提高电阻。
图 2
合金特性及其与基片之间的热机平衡力形成的标准温度系数,在 0 °C至+
60 ° C 范围内为 ± 1 ppm/ ° C ( Z 箔为 ppm/ ° C) (图 3)。
图 3
采用平箔时,并联电路设计可降低阻抗,电阻最大总阻抗为 uH 。最大电容为
pF。 1-k 电阻设置时间在 100 MHZ 以下小于 1 ns 。上升时间取决于电阻值,但较高和较
低电阻值相对于中间值仅略有下降。没有振铃噪声对于高速切换电路是十分重要的,例如
信号转换。
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