v薄膜物理与技术序言.pptxVIP

序言;二. 薄膜物理 1. 薄膜的各种制备方法及原理 2. 薄膜厚度的测量 3. 薄膜的形成机理、晶体结构、缺陷 4. 薄膜的物理性质 三. 薄膜的掺杂、表面处理及离子束改性 1. 离子束与固体相互作用的基础知识 2. 离子注入的损伤效应及退火效应 3. 离子束材料改性 4. 离子注入设备 ;三部分之间的联系 ? 大多数薄膜的制备和生长方法都离不开真空条件 ? 许多重要的薄膜制备（生长）方法采用等离子体及离子束技术 ? 离子束表面处理、离子注入是薄膜掺杂和改性重要的技术 ? 等离子体的形成、离??束的产生、注入均需在真空条件下完成 ;第一部分 真空科学与技术;2. 航天技术： 地面模拟实验 3. 薄膜制备设备 真空蒸发法、MBE、各种CVD，离子溅射、离子镀 4. 高级表面分析测试仪 XPS、AES、SIMS、SEM、RBS、TEM、质谱分析、核反应分析等 5. 微电子材料及器件制备 真空微电子器件、半导体器件镀膜、半导体材料制备、a-Si太阳能电池;6. 轻工业、制药业： 真空干燥（造纸）、真空包装、去湿（药品、食品、化学药品）、真空浸漆、吸鸡蛋等 7. 真空冶金 利用真空冶炼获得含气低、氧化少、杂质少的高质钢（如锆、钛、钽、铍莫合金）须在真空中材料熔炼 又如：真空冶炼的矽钢片, 磁滞损耗可降低20% 8. 日常用品 保温瓶、灯泡、日光灯、吸尘器、